[實用新型]一種LED外延片倒置MOCVD反應爐

有效

• 申請號: 201320587740.0
• 申請日: 2013-09-23
• 公開（公告）號: CN203530483U
• 公開（公告）日: 2014-04-09
• 發明（設計）人: 樊志濱;陳依新;王勇飛
• 申請（專利權）人: 北京思捷愛普半導體設備有限公司
• 主分類號: C30B25/12
• 分類號: C30B25/12
• 代理公司: 北京思海天達知識產權代理有限公司 11203
• 代理人: 劉萍

1.一種LED外延片倒置MOCVD反應爐，包括爐體（1）、固定在爐體頂部的爐蓋（2），其特征在于，在爐體側壁上開有過渡口（25），過渡口上固定有插板閥（26），爐蓋通過插銷裝置（3）固定圓環狀的且截面形狀為L形狀的基盤承載部（13），爐體內部旋轉軸（8）通過磁流體（7）連接有基盤（16），源料氣體導入管（21）、石英板（17）、排氣整流罩（23）固定在爐底（18）；

所述的基盤承載部（13）上依次安裝有基盤滑軌環（28）、基盤（16）、固定式齒環（14），基盤上依次安裝有衛星盤滑軌環（27）、衛星盤（15）、均熱板（29），多個衛星盤（15）上端邊緣為齒狀結構，與固定式齒環（14）嚙合，基盤滑軌環（27）、衛星盤滑軌環（28）是由上部的圓環狀的且截面形狀為凸字形狀的滑軌、下部的圓環狀的且截面形狀為凹字形狀的滑軌及中間的滾珠組成，外延襯底片（12）生長面向下放置在衛星盤（15）凹槽中后將均熱板（29）蓋上。

2.根據權利要求1所述的LED外延片倒置MOCVD反應爐，其特征在于，所述的基盤承載部（13）上依次安裝有基盤滑軌環（28）、基盤（16）、固定式齒環（14），基盤上依次安裝有衛星盤滑軌環（27）、衛星盤（15）、均熱板（29），此部分整體由機械臂（30）托舉，搬入、搬出反應爐腔室。

3.根據權利要求1所述的LED外延片倒置MOCVD反應爐，其特征在于，爐底（18）與爐體（1）由波紋管（24）相連，通過安裝外置氣缸控制爐底（18）整體升降。