[實(shí)用新型]一種單面中、雙留邊鋁金屬化薄膜有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201320519572.1 | 申請(qǐng)日: | 2013-08-23 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN203456291U | 公開(kāi)(公告)日: | 2014-02-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 汪祥久 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 昆山泓電隆泰電子材料有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01G4/005 | 分類號(hào): | H01G4/005;H01G4/008;H01G4/14 |
| 代理公司: | 南京蘇科專利代理有限責(zé)任公司 32102 | 代理人: | 陳忠輝 |
| 地址: | 215345 江蘇省*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 單面 雙留邊鋁 金屬化 薄膜 | ||
1.一種單面中、雙留邊鋁金屬化薄膜,作為電容器的內(nèi)芯膜材,其特征在于:所述薄膜為由上層膜和下層膜相疊構(gòu)成的二串式結(jié)構(gòu),其中上層膜和下層膜分別設(shè)為絕緣基膜及其上一體鍍覆的鋁膜,且上層膜的絕緣基膜在寬度方向上的中部設(shè)有中留邊,下層膜的絕緣基膜在寬度方向上的兩端設(shè)有外留邊,下層膜的寬度C小于上層膜的寬度A。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述單面中、雙留邊鋁金屬化薄膜,其特征在于:所述中留邊的寬度B大于或等于外留邊的寬度D。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述單面中、雙留邊鋁金屬化薄膜,其特征在于:所述絕緣基膜為聚丙烯基膜或聚酯基膜之一。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于昆山泓電隆泰電子材料有限公司,未經(jīng)昆山泓電隆泰電子材料有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買(mǎi)此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201320519572.1/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。





