[實用新型]導電玻璃超低溫循環鍍膜裝置

有效

• 申請號: 201320510906.9
• 申請日: 2013-08-20
• 公開（公告）號: CN203419980U
• 公開（公告）日: 2014-02-05
• 發明（設計）人: 馮新偉
• 申請（專利權）人: 江蘇津通先鋒光電顯示技術有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35
• 代理公司: 常州市維益專利事務所 32211
• 代理人: 王凌霄

技術領域

本實用新型涉及一種導電玻璃超低溫循環鍍膜裝置。

背景技術

真空磁濺射鍍膜技術，目前已經廣泛應用于導電玻璃的表面鍍膜，該技術對溫度要求比較高，一般要達到膜層厚度和膜層阻值要求，鍍膜溫度應該保持在230℃左右，但是在此溫度下鍍膜很容易造成鍍膜均勻性差，鍍膜后的膜層受到一定的氧化等因素困擾而影響質量，而如果一次性采用較低溫度（160℃左右）下鍍膜，又會造成膜層厚度偏低，使得導電玻璃的方塊電阻值高達800Ω左右，大大高于常規高透過率觸摸屏用導電玻璃方塊電阻值250Ω左右的要求。

實用新型內容

本實用新型要解決的技術問題是：克服現有技術中之不足，提供一種導電玻璃超低溫循環鍍膜裝置。

本實用新型解決其技術問題所采用的技術方案是：一種導電玻璃超低溫循環鍍膜裝置，包括鍍膜單元，所述鍍膜單元至少為相連的兩個，鍍膜單元包括垂直設置的冷卻水槽、貼合設置在冷卻水槽側面的永磁鐵，與永磁鐵正面相對設置有銅質的靶材基座，朝向永磁鐵的靶材基座內表面設有與永磁鐵位置對應的靶材，待鍍膜的導電玻璃位于永磁鐵與靶材之間，靶材基座外表面設有回旋布置的電加熱管，所述電加熱管連接有用于控制鍍膜溫度的溫控系統。

所述的鍍膜單元為依次首尾相連的三個。

所述的永磁鐵為相距設置的兩個，所述永磁鐵滑動設置在冷卻水槽側面，相應地，靶材數量為兩個。

本實用新型的有益效果是：本實用新型通過設置至少兩個首尾相連的鍍膜單元，且控制每個鍍膜單元的鍍膜溫度在160℃左右，實現了導電玻璃鍍膜時低溫一次性連續多次鍍膜，使得鍍膜后的膜層厚度達到設計要求，有效地提高和穩定了鍍膜膜層的均勻性。

附圖說明

下面結合附圖和實施方式對本實用新型進一步說明。

圖1是本實用新型所述鍍膜單元的結構示意圖。

圖中1.冷卻水槽2.永磁鐵3.靶材基座4.靶材5.電加熱管6.溫控系統7.導電玻璃

具體實施方式

現在結合附圖對本實用新型作進一步的說明。這些附圖均為簡化的示意圖僅以示意方式說明本實用新型的基本結構，因此其僅顯示與本實用新型有關的構成。

一種導電玻璃超低溫循環鍍膜裝置，包括三個依次首尾相連的鍍膜單元，如圖1所示，所述鍍膜單元包括垂直設置的冷卻水槽1、貼合設置在冷卻水槽1側面的兩塊永磁鐵2，兩塊永磁鐵2相距設置，與永磁鐵2正面相對設置有銅質的靶材基座3，朝向永磁鐵2的靶材基座3內表面設有與永磁鐵2位置對應、數量為兩個的靶材4，待鍍膜的導電玻璃7位于永磁鐵2與靶材4之間，并作緩緩移動，位于靶材基座3外表面設有呈回旋狀布置的電加熱管5，所述電加熱管5連接有用于控制鍍膜溫度的溫控系統6，通過溫控系統6控制，確保了導電玻璃7的鍍膜溫度控制在160℃左右。

所述永磁鐵2通過滑軌滑動設置在冷卻水槽1側面，通過移動永磁鐵2位置，可均勻地耗用靶材4的各個部分，充分發揮靶材4的最大使用效率，降低成本，確保靶材4消耗的均勻性。

試驗證明，ITO鍍膜膜層厚度與ITO自身溫度在160℃～235℃之間時，近似線性關系，ITO鍍膜膜層氧化程度與ITO自身溫度在160℃～235℃之間時，近似線性關系，而ITO鍍膜均勻性會隨著鍍膜時ITO自身溫度的升高變得越來越差，因此為追求鍍膜膜層的均勻性，行業內更多地采用低溫鍍膜技術，但單一的一次性低溫鍍膜，并非理想的方案，本實用新型通過設置三個依次首尾相連的鍍膜單元，且控制每個鍍膜單元的鍍膜溫度在160℃左右，實現了導電玻璃7鍍膜時低溫一次性連續多次鍍膜，使得鍍膜后的膜層厚度達到設計要求，有效地提高和穩定了鍍膜膜層的均勻性。

上述實施方式只為說明本實用新型的技術構思及特點，其目的在于讓熟悉此項技術的人士能夠了解本實用新型的內容并加以實施，并不能以此限制本實用新型的保護范圍，凡根據本實用新型精神實質所作的等效變化或修飾，都應涵蓋在本實用新型的保護范圍內。