[實(shí)用新型]一種LED芯片有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201320499540.X | 申請(qǐng)日: | 2013-08-16 |
| 公開(公告)號(hào): | CN203434185U | 公開(公告)日: | 2014-02-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李明剛 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 惠州比亞迪實(shí)業(yè)有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L33/38 | 分類號(hào): | H01L33/38;H01L33/46;H01L33/64 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 516083*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 led 芯片 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型屬于半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種LED芯片。
背景技術(shù)
由于LED具有環(huán)保、節(jié)能、壽命長等優(yōu)點(diǎn),得到的廣泛的應(yīng)用。其中最核心部件——LED芯片的通常采用碳化硅襯底、硅襯底和藍(lán)寶石襯底。其中碳化硅襯底和硅襯底由于導(dǎo)電性良好,可以制作成垂直結(jié)構(gòu)LED芯片和水平結(jié)構(gòu)LED芯片,而絕緣的藍(lán)寶石襯底僅能制作成水平結(jié)構(gòu)LED芯片。
圖1為現(xiàn)有技術(shù)中的水平結(jié)構(gòu)LED芯片的結(jié)構(gòu)示意圖。可以看出水平結(jié)構(gòu)的LED芯片通常是在外延層上表面刻蝕掉一部分露出N型層,然后分別在P型層和N型層之上形成P電極和N電極。該水平結(jié)構(gòu)LED芯片的P極通常采用透明電極,但仍會(huì)吸收30%-40%的光,大大降低了出光效率。并且,當(dāng)襯底選用藍(lán)寶石襯底時(shí)由于其導(dǎo)熱性較差,在100℃導(dǎo)熱系數(shù)僅為25w/(m﹒K),容易引起器件熱量累積,對(duì)LED芯片壽命帶來衰減。
發(fā)明內(nèi)容
本實(shí)用新型旨在至少在一定程度上解決上述技術(shù)問題之一或至少提供一種有用的商業(yè)選擇。為此,本實(shí)用新型的一個(gè)目的在于提出一種出光率高、散熱性好的LED芯片。根據(jù)本實(shí)用新型實(shí)施例的LED芯片,包括以下部分:襯底;形成在所述襯底之上的緩沖層;形成在所述緩沖層之上的N型GaN層;形成在所述N型GaN層之上的量子阱;形成在所述量子阱之上的電子阻擋層;形成在所述電子阻擋層之上的P型GaN層;?形成在所述P型GaN層之上的鈍化層;P電極,所述P電極從所述襯底的下表面貫穿至所述P型GaN層的下表面;以及N電極,所述N電極從所述襯底的下表面貫穿至所述N型GaN層的下表面。
優(yōu)選地,還包括:形成在所述P型GaN層和所述鈍化層之間的電流擴(kuò)散層。
優(yōu)選地,所述P電極從所述襯底的下表面貫穿至所述電流擴(kuò)散層的下表面。
優(yōu)選地,還包括:形成在所述緩沖層和所述N型GaN層之間的本征層。
優(yōu)選地,所述N電極從所述襯底的下表面貫穿至所述本征層的下表面。
優(yōu)選地,所述P電極和N電極的形狀為正梯形。
優(yōu)選地,定義所述P電極的側(cè)面與所述襯底的下表面夾角為α,?所述N電極的側(cè)面與所述襯底的下表面夾角為β,其中,α和β的取值范圍為65-80°。
優(yōu)選地,所述P電極和N電極的側(cè)面以及所述襯底的下表面具有布拉格反射層。
優(yōu)選地,所述襯底為藍(lán)寶石襯底。
實(shí)用新型由上可知,根據(jù)本實(shí)用新型的LED芯片至少具有如下優(yōu)點(diǎn):
(1)電極從襯底下方引出,不影響光線從正面芯片正面射出,并且,電極層側(cè)面和襯底下表面具有分布式布拉格反射層,光線不容易從電極處和芯片底部漏出,因此LED芯片的出光率高。
(2)由于電極是從襯底底部引出的,因此可以采用覆晶技術(shù)將電極直接固晶在支架上,因此芯片上熱能能夠迅速傳遞給支架,從而有效地解決了藍(lán)寶石散熱性差的問題,此外藍(lán)寶石襯底經(jīng)過減薄處理也有利于散熱,避免了因熱量累積導(dǎo)致芯片壽命衰減。
(3)結(jié)構(gòu)簡單,工藝簡單,成本較低,易于大規(guī)模生產(chǎn)。
本實(shí)用新型的附加方面和優(yōu)點(diǎn)將在下面的描述中部分給出,部分將從下面的描述中變得明顯,或通過本實(shí)用新型的實(shí)踐了解到。
附圖說明
本實(shí)用新型的上述和/或附加的方面和優(yōu)點(diǎn)從結(jié)合下面附圖對(duì)實(shí)施例的描述中將變得明顯和容易理解,其中:
圖1是現(xiàn)有的水平結(jié)構(gòu)的LED芯片的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2是根據(jù)本實(shí)用新型一個(gè)實(shí)施例的LED芯片的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖3是根據(jù)本實(shí)用新型另一個(gè)實(shí)施例的LED芯片的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖4是根據(jù)本實(shí)用新型實(shí)施例的LED芯片的制備方法的流程圖;
圖5a至圖5e是根據(jù)本實(shí)用新型實(shí)施例的LED芯片的制備方法的具體過程示意圖。
具體實(shí)施方式
下面詳細(xì)描述本實(shí)用新型的實(shí)施例,所述實(shí)施例的示例在附圖中示出,其中自始至終相同或類似的標(biāo)號(hào)表示相同或類似的元件或具有相同或類似功能的元件。下面通過參考附圖描述的實(shí)施例是示例性的,旨在用于解釋本實(shí)用新型,而不能理解為對(duì)本實(shí)用新型的限制。
在本實(shí)用新型的描述中,需要理解的是,術(shù)語“中心”、“縱向”、“橫向”、“長度”、“寬度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“豎直”、“水平”、“頂”、“底”“內(nèi)”、“外”、“順時(shí)針”、“逆時(shí)針”等指示的方位或位置關(guān)系為基于附圖所示的方位或位置關(guān)系,僅是為了便于描述本實(shí)用新型和簡化描述,而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構(gòu)造和操作,因此不能理解為對(duì)本實(shí)用新型的限制。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于惠州比亞迪實(shí)業(yè)有限公司,未經(jīng)惠州比亞迪實(shí)業(yè)有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201320499540.X/2.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類





