[實用新型]一種鑲件的斜脫模結構

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201320497975.0
• 申請日: 2013-08-15
• 公開（公告）號: CN203438444U
• 公開（公告）日: 2014-02-19
• 發(fā)明（設計）人: 呂應軍
• 申請（專利權）人: 無錫市新區(qū)偉創(chuàng)利模具廠
• 主分類號: B29C33/44
• 分類號: B29C33/44
• 代理公司: 無錫盛陽專利商標事務所(普通合伙) 32227
• 代理人: 杜丹盛

1.一種鑲件的斜脫模結構，其包括前模、后模、A板、B板，所述前模、后模、鑲件之間的空腔為型腔，所述型腔內為產品，其特征在于：所述鑲件包括側部鑲件，所述側部鑲件緊貼所述產品的斜向上凸起結構的外壁、其斜向上凸起的斜度為α,所述側部鑲件的外側緊固連接有滑塊，所述滑塊的底面為斜度為α的平面，所述滑塊的底面支承于斜度為α的耐磨塊的上平面，所述耐磨塊緊固于所述B板，斜導柱貫穿A板后插裝于所述滑塊的斜導柱腔內。