[實用新型]真空磁控濺射鍍鋁玻璃鏡

有效

• 申請號: 201320439616.X
• 申請日: 2013-07-23
• 公開（公告）號: CN203396971U
• 公開（公告）日: 2014-01-15
• 發明（設計）人: 夏衛文;王德標;趙建楊
• 申請（專利權）人: 浙江格拉威寶玻璃技術有限公司
• 主分類號: G02B5/08
• 分類號: G02B5/08;G02B1/10
• 代理公司: 杭州杭誠專利事務所有限公司 33109
• 代理人: 俞潤體;沈相權

技術領域

本實用新型是一種玻璃鏡，特別涉及一種真空磁控濺射鍍鋁玻璃鏡。

背景技術

根據鏡子加工過程中的生產工藝不同可分為銀鏡和鋁鏡，銀鏡生產工藝中采用的主要原料為硝酸銀與銅，銀與銅都是重金屬元素，生產過程及報廢時都對環境造成極其惡劣的影響。

目前，市場上所生產的鍍鋁玻璃鏡，基本都是采用真空蒸發鍍鋁，即在真空狀態下，通過對固體鋁條加上足夠大的電壓和電流，使其蒸發升華，氣化的鋁分子沉積在玻璃表面，表層鋁在成膜過程中迅速氧化，從而在表面形成一層堅硬的保護膜，隔絕空氣，再淋兩遍漆，從而形成鋁鏡。采用此種工藝生產的鋁鏡反射率較銀鏡低、成像失真，形成的鋁層附著力差，工業生產中產量較低等缺點。

發明內容

本實用新型主要是解決現有技術中存在的不足，結構緊湊，且具有良好附著力的鋁層，使成像逼真，并能批量連續生產的真空磁控濺射鍍鋁玻璃鏡。

本實用新型的上述技術問題主要是通過下述技術方案得以解決的：

一種真空磁控濺射鍍鋁玻璃鏡，包括玻璃基片層，所述的玻璃基片層的背面設有與之相貼合的鋁層，所述的鋁層的背面設有與之相貼合的鏡背漆層。

鋁層：采用磁控濺射法，在真空狀態下，通入氬氣，氬氣在電場和磁場的共同作用下，電離成Ar⁺和e^-，Ar⁺在磁場洛倫茲力作用下發生螺旋軌跡運動，從而使其對鋁靶進行轟擊，鋁靶上的原子（target?atoms）在Ar⁺的轟擊下脫離靶材并濺射到玻璃基板上，原子層層堆積從而形成所需的納米級厚度膜層。

鏡背漆層是有機材料漆，具有更低的細度、背漆硬度及耐水性更好。

作為優選，所述的玻璃基片層的厚度為3-19mm，所述的鏡背漆層的厚度為30-50μm。

作為優選，所述的玻璃基片層、鋁層、鏡背漆層自上而下依次相貼合。??

????因此，本實用新型提供的真空磁控濺射鍍鋁玻璃鏡，結構緊湊，具有環保性能，質量穩定性高，適合連續生產。

附圖說明

圖1是本實用新型的結構示意圖。

具體實施方式

下面通過實施例，并結合附圖，對本實用新型的技術方案作進一步具體的說明。

??實施例：如圖1所示，一種真空磁控濺射鍍鋁玻璃鏡，包括玻璃基片層1，所述的玻璃基片層1的背面設有與之相貼合的鋁層2，所述的鋁層2的背面設有與之相貼合的鏡背漆層3。所述的玻璃基片層1的厚度為3-19mm，所述的鏡背漆層3的厚度為30-50μm。所述的玻璃基片層1、鋁層2、鏡背漆層3自上而下依次相貼合。