[實用新型]同心圓光刻板有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201320398333.5 | 申請日： | 2013-07-04 |
| 公開（公告）號： | CN203324646U | 公開（公告）日： | 2013-12-04 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 喻慧丹;裘立強;王毅 | 申請（專利權(quán)）人： | 揚州杰利半導(dǎo)體有限公司 |
| 主分類號： | G03F1/40 | 分類號： | G03F1/40 |
| 代理公司： | 南京縱橫知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 32224 | 代理人： | 周全 |
| 地址： | 225008 江蘇*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 同心 圓光 刻板 | ||
【權(quán)利要求書】：
1.同心圓光刻板，包括片狀本體，所述本體表面設(shè)有涂層，所述涂層包括若干晶粒圖形，所述晶粒圖形包括第一矩形和第二矩形，所述第二矩形設(shè)在所述第一矩形內(nèi)、且與所述第一矩形的中心一致；
所述第一矩形具有四個第一圓倒角，所述第二矩形具有四個第二圓倒角；
其特征在于，所述第一圓倒角和第二圓倒角的圓心一致。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的同心圓光刻板，其特征在于，所述本體為玻璃材質(zhì)。
下載完整專利技術(shù)內(nèi)容需要扣除積分，VIP會員可以免費下載。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于揚州杰利半導(dǎo)體有限公司，未經(jīng)揚州杰利半導(dǎo)體有限公司許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201320398333.5/1.html，轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇：一種通用的多輸入授時系統(tǒng)
- 下一篇：彎曲式顯示裝置
- 同類專利
- 專利分類
G03 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)
G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設(shè)備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其專門適用于此的容器；其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜，例如通過電子束；其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜；其制備，例如光學臨近校正(OPC)設(shè)計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜，例如用于校準或測試的特殊涂層或標記；其制備
G03F 圖紋面的照相制版工藝，例如，印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝；其所用材料；其所用原版；其所用專用設(shè)備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其專門適用于此的容器；其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜，例如通過電子束；其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜；其制備，例如光學臨近校正(OPC)設(shè)計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜，例如用于校準或測試的特殊涂層或標記；其制備
