[實(shí)用新型]動(dòng)壓浮離拋光盤動(dòng)壓浮離位置精密調(diào)整機(jī)構(gòu)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201320352834.X
• 申請(qǐng)日: 2013-06-18
• 公開（公告）號(hào): CN203317206U
• 公開（公告）日: 2013-12-04
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張利;尹林志;文東輝;金明生;王揚(yáng)渝
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 浙江工業(yè)大學(xué)
• 主分類號(hào): B24B37/34
• 分類號(hào): B24B37/34
• 代理公司: 杭州斯可睿專利事務(wù)所有限公司 33241
• 代理人: 王利強(qiáng)

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及研磨裝置領(lǐng)域，尤其是一種動(dòng)壓浮離拋光盤。

背景技術(shù)

動(dòng)壓浮離拋光是非接觸拋光的一種。平面非接觸拋光裝置工作原理是：當(dāng)沿圓周方向制有若干個(gè)傾斜平面的圓盤在液體中轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)，通過液體楔產(chǎn)生液體動(dòng)壓（動(dòng)壓推力軸承工作原理），使保持環(huán)中的工件浮離圓盤表面，由浮動(dòng)間隙中的粉末顆粒對(duì)工件進(jìn)行拋光。加工過程中無摩擦熱和工具磨損，標(biāo)準(zhǔn)平面不會(huì)變化，因此，可重復(fù)獲得精密的工件表面。該方法主要用于半導(dǎo)體基片和各種功能陶瓷材料及光學(xué)玻璃平晶的拋光，可同時(shí)進(jìn)行多片加工。用這種方法加工3”直徑硅片可獲得0.3μm的平面度和Ra?1nm的表面粗糙度。

液體楔產(chǎn)生的液體動(dòng)壓一方面使得工件浮離在圓盤表面，另一方面，該壓力也會(huì)周期性和間歇性作用于工件表面。如果該液體動(dòng)壓持續(xù)作用，工件將會(huì)以一定的頻率上下浮動(dòng)（振動(dòng)），也就是說工件相對(duì)主研磨盤的浮離位置會(huì)不斷變化，甚至出現(xiàn)一定的不穩(wěn)定現(xiàn)象，這將會(huì)對(duì)工件表面的加工精度產(chǎn)生不利影響，也會(huì)降低拋光效率。如果工件剛性連接在調(diào)整機(jī)構(gòu)上，那么該浮動(dòng)會(huì)對(duì)連接處產(chǎn)生剛性沖擊，從而影響機(jī)構(gòu)的使用壽命。

為了彌補(bǔ)現(xiàn)有動(dòng)壓浮離拋光方式的缺陷，為了使工件相對(duì)于拋光盤的動(dòng)壓浮離位置能夠穩(wěn)定，需要在原先裝置基礎(chǔ)上設(shè)計(jì)自適應(yīng)調(diào)整機(jī)構(gòu)，從而滿足上述要求。

發(fā)明內(nèi)容

為了克服已有技術(shù)中動(dòng)壓浮離拋光中因浮離位置周期性變動(dòng)影響到拋光精度的不足，本實(shí)用新型提供一種有效避免浮離位置周期性變動(dòng)影響、提升拋光精度的動(dòng)壓浮離拋光盤動(dòng)壓浮離位置精密調(diào)整機(jī)構(gòu)。

本實(shí)用新型解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是：

一種動(dòng)壓浮離拋光盤動(dòng)壓浮離位置精密調(diào)整機(jī)構(gòu)，所述拋光盤與主軸下端連接，所述調(diào)整機(jī)構(gòu)包括機(jī)架、微動(dòng)升降器、L壓塊、限位軸套和彈簧，電機(jī)軸穿過所述L壓塊的通孔，所述L壓塊與推力球軸承的上部抵觸，所述推力球軸承套裝在所述電機(jī)軸外，且所述推力球軸承下部安裝在所述限位軸套的內(nèi)壁，所述電機(jī)軸的下部位于所述限位軸套內(nèi)，所述電機(jī)軸與所述限位軸套通過鍵可上下移動(dòng)地連接，所述限位軸套的下部位于花鍵軸內(nèi)，所述限位軸套與所述花鍵軸通過鍵可上下移動(dòng)地連接，所述主軸上端安裝在所述花鍵軸內(nèi)，所述花鍵軸內(nèi)套裝彈簧，所述彈簧的上端頂在所述限位軸套的下端，所述彈簧的下端頂在所述主軸上；所述L壓塊與所述微動(dòng)升降器的動(dòng)作端連接，所述微動(dòng)升降器、花鍵軸均安裝在機(jī)架上。

進(jìn)一步，所述花鍵軸內(nèi)壁設(shè)有臺(tái)階，所述主軸上端與所述臺(tái)階持平，所述主軸上端與鎖緊螺母連接，所述鎖緊螺母與所述臺(tái)階之間設(shè)有止動(dòng)墊圈。

本實(shí)用新型的有益效果主要表現(xiàn)在：有效避免浮離位置周期性變動(dòng)影響、提升拋光精度。

附圖說明

圖1是動(dòng)壓浮離位置精密調(diào)整機(jī)構(gòu)的外觀示意圖。

圖2是動(dòng)壓浮離位置精密調(diào)整機(jī)構(gòu)的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步描述。

參照?qǐng)D1和圖2，一種動(dòng)壓浮離拋光盤動(dòng)壓浮離位置精密調(diào)整機(jī)構(gòu)，所述拋光盤1與主軸2下端連接，所述調(diào)整機(jī)構(gòu)包括機(jī)架、微動(dòng)升降器11、L壓塊10、限位軸套4和彈簧8，電機(jī)軸5穿過所述L壓塊10的通孔，所述L壓塊10與推力球軸承7的上部抵觸，所述推力球軸承7套裝在所述電機(jī)軸5外，且所述推力球軸承7下部安裝在所述限位軸套4的內(nèi)壁，所述電機(jī)軸5的下部位于所述限位軸套4內(nèi)，所述電機(jī)軸5與所述限位軸套4通過鍵可上下移動(dòng)地連接，所述限位軸套4的下部位于花鍵軸3內(nèi)，所述限位軸套4與所述花鍵軸3通過鍵可上下移動(dòng)地連接，所述主軸2上端安裝在所述花鍵軸3內(nèi)，所述花鍵軸3內(nèi)套裝彈簧8，所述彈簧8的上端頂在所述限位軸套4的下端，所述彈簧8的下端頂在所述主軸2上；所述L壓塊10與所述微動(dòng)升降器11的動(dòng)作端連接，所述微動(dòng)升降器11、花鍵軸3均安裝在機(jī)架上。

進(jìn)一步，所述花鍵軸3內(nèi)壁設(shè)有臺(tái)階，所述主軸2上端與所述臺(tái)階持平，所述主軸2上端與鎖緊螺母9連接，所述鎖緊螺母9與所述臺(tái)階之間設(shè)有止動(dòng)墊圈。

動(dòng)壓浮離拋光：電機(jī)6驅(qū)動(dòng)電機(jī)軸5，從而驅(qū)動(dòng)限位滑套4、花鍵軸3和主軸2。拋光盤和主軸2通過聯(lián)軸器連接，所以電機(jī)通過各個(gè)連接機(jī)構(gòu)能夠驅(qū)動(dòng)拋光盤。

拋光盤動(dòng)壓浮離位置精密調(diào)整：在裝置的旁邊設(shè)有微動(dòng)升降器11，所述升降器有粗調(diào)和精調(diào)兩種方式，它能夠驅(qū)動(dòng)L壓塊7上下運(yùn)動(dòng)，從而能夠間接推動(dòng)推力球軸承7和限位滑套4上下運(yùn)動(dòng)。通過上述運(yùn)動(dòng)方式可以間接調(diào)整限位滑套4和鎖緊螺母9之間的距離，那么，位于其中的彈簧將產(chǎn)生不同程度的變形，從而獲得不同大小的預(yù)緊力。這個(gè)預(yù)緊力可以根據(jù)需要精確獲得。當(dāng)拋光盤受到楔形液體的沖擊時(shí)，拋光盤1會(huì)帶動(dòng)主軸2向上浮動(dòng)。由于彈簧8有預(yù)緊力，所以彈簧會(huì)產(chǎn)生抵抗作用，吸收拋光盤1和主軸2的振動(dòng)的能量，并使得他們快速回復(fù)到理想的初始位置，確保了拋光盤動(dòng)壓浮離位置的穩(wěn)定。