[實(shí)用新型]一種單芯片集成溫度補(bǔ)償?shù)谋∧んw聲波諧振器有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201320296041.0 | 申請(qǐng)日: | 2013-05-28 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN203278765U | 公開(kāi)(公告)日: | 2013-11-06 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 董樹(shù)榮;卞曉磊;胡娜娜;郭維 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 江蘇艾倫摩爾微電子科技有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | H03H9/17 | 分類(lèi)號(hào): | H03H9/17 |
| 代理公司: | 南京縱橫知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 32224 | 代理人: | 董建林 |
| 地址: | 215300 江蘇省蘇州市昆*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 芯片 集成 溫度 補(bǔ)償 薄膜 聲波 諧振器 | ||
1.一種單芯片集成溫度補(bǔ)償?shù)谋∧んw聲波諧振器,其特征在于,設(shè)置一個(gè)直流偏壓?jiǎn)卧獮楸∧んw聲波諧振器提供偏壓電壓,所述的直流偏壓?jiǎn)卧敵龆朔謩e連接內(nèi)嵌肖特基結(jié)的薄膜體聲波諧振器的上、下電極,所述直流偏壓?jiǎn)卧c薄膜體聲波諧振器集成在一個(gè)硅片CELL單元內(nèi)。
2.如權(quán)利要求1所述的單芯片集成溫度補(bǔ)償?shù)谋∧んw聲波諧振器,其特征在于,所述的薄膜體聲波諧振器采用薄膜堆疊結(jié)構(gòu),包含依次堆疊于基板上集成一體的聲反射層、下電極、壓電層、半導(dǎo)體薄層以及上電極。
3.如權(quán)利要求1所述的單芯片集成溫度補(bǔ)償?shù)谋∧んw聲波諧振器,其特征在于,所述的直流偏壓?jiǎn)卧獮闇孛綦娮韬推胀娮璐?lián)組成的偏壓電路,并通過(guò)外接芯片電源實(shí)現(xiàn)直流偏壓。
4.如權(quán)利要求1?所述的單芯片集成溫度補(bǔ)償?shù)谋∧んw聲波諧振器,其特征在于,直流偏壓?jiǎn)卧怯蓽囟让舾械碾娮?、普通電阻和穩(wěn)壓電源組成的電阻網(wǎng)絡(luò)分壓電路,或是由包含溫敏電阻的電橋差動(dòng)偏壓電路組成。
5.如權(quán)利要求3所述的單芯片集成溫度補(bǔ)償?shù)谋∧んw聲波諧振器,其特征在于,所述的溫敏電阻為溫度敏感的多晶硅電阻、阱電阻、n+/p+電阻或n+?poly/p+?poly?電阻。
6.如權(quán)利要求2所述的單芯片集成溫度補(bǔ)償?shù)谋∧んw聲波諧振器,其特征在于,所述的聲反射層是布拉格聲反射層、表面氣隙結(jié)構(gòu)或表面犧牲層結(jié)構(gòu)中的一種。
7.如權(quán)利要求1所述的單芯片集成溫度補(bǔ)償?shù)谋∧んw聲波諧振器,其特征在于,所述的直流偏壓?jiǎn)卧褂闷胀–MOS工藝與薄膜體聲波諧振器一起制備在硅片表面,所述的薄膜體聲波諧振器制備在直流偏壓?jiǎn)卧拟g化層上方;薄膜體聲波諧振器和直流偏壓?jiǎn)卧约盎械募呻娐?,通過(guò)垂直通孔實(shí)現(xiàn)電路連接。
8.如權(quán)利要求2所述的單芯片集成溫度補(bǔ)償?shù)谋∧んw聲波諧振器,其特征在于,所述的壓電層采用具有壓電效應(yīng)的壓電材料,所述壓電材料為ZnO、AlN、GaAs或CdS。
9.如權(quán)利要求2所述的單芯片集成溫度補(bǔ)償?shù)谋∧んw聲波諧振器,其特征在于,所述的半導(dǎo)體薄層是載流子濃度在1012-1019?cm-3的壓電半導(dǎo)體材料。
10.如權(quán)利要求2所述的單芯片集成溫度補(bǔ)償?shù)谋∧んw聲波諧振器,其特征在于,所述的半導(dǎo)體薄層和所述的上電極形成構(gòu)成肖特基接觸的勢(shì)壘二極管,所述上電極為Au或Cr。
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