[實用新型]一種實現(xiàn)光偏振分束和旋轉的集成器件有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201320278972.8 | 申請日: | 2013-05-21 |
| 公開(公告)號: | CN203311029U | 公開(公告)日: | 2013-11-27 |
| 發(fā)明(設計)人: | 鄭志強 | 申請(專利權)人: | 寧波屹諾電子科技有限公司 |
| 主分類號: | G02B6/126 | 分類號: | G02B6/126;G02B6/24 |
| 代理公司: | 杭州豐禾專利事務所有限公司 33214 | 代理人: | 鄭黎明 |
| 地址: | 315202 浙江省*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 實現(xiàn) 偏振 旋轉 集成 器件 | ||
技術領域
?本實用新型涉及集成光子領域,特別是涉及一種基于高折射率差波導來實現(xiàn)光偏振分束和偏振旋轉的集成器件。該器件可用于偏振分集集成光路。
背景技術
經過多年的發(fā)展,集成光子器件的尺寸逐步縮小。集成光子芯片的集成度正以超越集成電子摩爾定律的速度在發(fā)展。近幾年,以絕緣體上的硅材料(SOI)為代表的高折射率差納米線波導及其器件引起了人們的廣泛關注。材料具有很多優(yōu)點,首先,它得器件加工方式與如今已廣泛使用的集成電路CMOS工藝兼容。其次,由于其使用了高折射率差結構,SOI波導的尺寸可控制在300nm左右,彎曲半徑在2um以下,相鄰波導間距在1um以下。與已廣泛使用的二氧化硅材料相比,SOI材料光子集成芯片的集成度提高了幾個數量級。由于以上這些優(yōu)點,SOI材料光集成技術得到迅速的發(fā)展,大量的SOI集成器件已被研制出來。
但同樣因為采用了高折射率差結構,使得SOI集成光子芯片具有較為明顯的偏振相關性,即:同一個器件的在兩種偏振光下表現(xiàn)出來的性能差異很大。這使得這種芯片與其它偏振無關的光路系統(tǒng)(如:光纖)相連接時,產生了不兼容的問題。一種有效的解決方法是采用偏振分集光路設計,如圖1所示。在該光路設計中,兩個偏振光同時從波導1中輸入集成芯片。輸入光首先通過一個偏振分束器2,將兩個偏振光分開到兩根波導3,4中,之后,其中一根波導中(在該圖中為波導3)經過一個偏振旋轉器5,將該波導中的光的偏振方向旋轉90度。這樣兩根波導中的光都轉換成相同的偏振方向,因此之后的集成光器件6、7只需處理一種偏振光即可,避免了偏振相關性的影響。處理完以后的輸出光,再通過類似的偏振旋轉器8和偏振分束器9,合并到輸出波導10中,從而實現(xiàn)了偏振不敏感的集成芯片。
在這種傳統(tǒng)的偏振分集方案中,偏振分束器和偏振旋轉器為兩個獨立器件,并且傳統(tǒng)的集成型偏振旋轉器加工較為復雜,需要多次鍍膜、光刻和刻蝕工藝。這些都大大增加了偏振分集方案實現(xiàn)的成本,降低了其穩(wěn)定性。
發(fā)明內容
本實用新型針對現(xiàn)有技術中的不足,提供了一種可同時實現(xiàn)偏振分束以及偏振旋轉作用的光偏振分束和旋轉的集成器件,本集成器件結構緊湊、簡單,易于加工實現(xiàn),可直接應用于偏振分集型集成光路,可大大提高穩(wěn)定性并降低成本。
為了解決上述技術問題,本實用新型通過下述技術方案得以解決:一種實現(xiàn)光偏振分束和旋轉的集成器件,其特征在于:包括兩根平行設置的第一直波導和第二直波導,所述第一直波導和第二直波導上方設置有上包層,下方設置有下包層從而形成耦合區(qū),其中,所述上包層以及下包層的折射率低于所述第一直波導和第二直波導的折射率,且所述上包層的折射率大于或小于所述下包層的折射率。本實用新型的結構構成垂直方向非對稱的波導,該耦合區(qū)結構可以支持較強的交叉耦合效應。利用垂直方向非對稱波導存在交叉耦合的效應,通過兩根平行耦合波導,通過定向耦合的方式達到偏振分束以及偏振旋轉的效果。
作為優(yōu)選,上述第一直波導中的橫電模和所述第二直波導中的橫磁模的理論功率耦合效率大于等于80%,所述第一直波導中的橫磁模和所述第二直波導中的橫電模以及橫磁模的理論功率耦合效率小于等于10%。
為了實現(xiàn)上述耦合效率,優(yōu)選的方案是:上述第一直波導中的橫電模的模式傳播常數相對所述第二直波導中的橫磁模的模式傳播常數的偏差小于或等于1%,且所述耦合區(qū)的長度等于所述第一直波導中的橫電模和所述第二直波導中的橫磁模耦合的耦合長度的奇數倍。
作為優(yōu)選,上述第一直波導的寬度與所述第二直波導的寬度的差別在100nm-500nm之間。本實用新型中第一直波導和第二直波導的模式傳播常數通過控制兩者的寬度即可實現(xiàn),因此只需一次光刻和刻蝕工藝就能加工實現(xiàn)。制作工藝與普通的集成光器件相同,無需額外工藝步驟。
作為另一優(yōu)選方案:上述第一直波導中的橫磁模和所述第二直波導中的橫電模的理論功率耦合效率大于等于80%,所述第一直波導中的橫電模和所述第二直波導中的橫電模以及橫磁模的理論功率耦合效率小于等于10%。
為了實現(xiàn)上述耦合效率,優(yōu)選的方案是:上述第一直波導中的橫磁模的模式傳播常數相對所述第二直波導中的橫電模的模式傳播常數的偏差小于或等于1%,且所述耦合區(qū)的長度等于所述第一直波導中的橫磁模和所述第二直波導中的橫電模耦合的耦合長度的奇數倍。
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