[實(shí)用新型]一種擺設(shè)件有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201320185019.9 | 申請(qǐng)日： | 2013-04-12 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN203331677U | 公開（公告）日： | 2013-12-11 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 黃桂騰;陳柏年;何冠寰 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 周大福珠寶金行有限公司 |
| 主分類號(hào)： | B44C5/00 | 分類號(hào)： | B44C5/00 |
| 代理公司： | 北京三友知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11127 | 代理人： | 王春光 |
| 地址： | 中國(guó)香港*** | 國(guó)省代碼： | 中國(guó)香港;81 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 擺設(shè) | ||
1.一種擺設(shè)件，其特征在于，所述擺設(shè)件包括一硬質(zhì)足金殼體及覆蓋所述硬質(zhì)足金殼體并具表面紋理的軟質(zhì)足金表層，所述硬質(zhì)足金殼體的硬度高于所述軟質(zhì)足金表層的硬度。?
2.如權(quán)利要求1所述的擺設(shè)件，其特征在于，所述硬質(zhì)足金殼體的硬度與所述軟質(zhì)足金表層的硬度的差值大于或等于40Hv。?
3.如權(quán)利要求1所述的擺設(shè)件，其特征在于，所述硬質(zhì)足金殼體的硬度高于90Hv。?
4.如權(quán)利要求2所述的擺設(shè)件，其特征在于，所述硬質(zhì)足金殼體的硬度高于90Hv。?
5.如權(quán)利要求1所述的擺設(shè)件，其特征在于，所述硬質(zhì)足金殼體的硬度低于180Hv。?
6.如權(quán)利要求1所述的擺設(shè)件，其特征在于，所述軟質(zhì)足金表層的硬度低于60Hv。?
7.如權(quán)利要求1所述的擺設(shè)件，其特征在于，所述硬質(zhì)足金殼體的厚度大于60微米。?
8.如權(quán)利要求1所述的擺設(shè)件，其特征在于，所述硬質(zhì)足金殼體的厚度小于350微米。?
9.如權(quán)利要求1所述的擺設(shè)件，其特征在于，所述軟質(zhì)足金表層的厚度小于80微米。?
10.如權(quán)利要求1所述的擺設(shè)件，其特征在于，所述軟質(zhì)足金表層具有凹凸紋理表面，所述凹凸紋理表面為絨面、沙面或絨沙面。?
11.如權(quán)利要求10所述的擺設(shè)件，其特征在于，所述軟質(zhì)足金表層的所述凹凸紋理表面的凹凸紋理的深度大于0.05微米。?
12.如權(quán)利要求1至11中任一項(xiàng)所述的擺設(shè)件，其特征在于，所述硬質(zhì)足金殼體是通過(guò)電鑄形成的硬質(zhì)足金殼體。?
13.如權(quán)利要求1至11中任一項(xiàng)所述的擺設(shè)件，其特征在于，所述軟質(zhì)足金表層電鑄形成于所述硬質(zhì)足金殼體上。?
14.如權(quán)利要求1至11中任一項(xiàng)所述的擺設(shè)件，其特征在于，所述硬質(zhì)足金殼體為中空殼體或空心殼體，所述中空殼體或空心殼體是具有能承托所述軟質(zhì)足金表層的硬度或剛度的硬質(zhì)足金殼體。?
15.如權(quán)利要求1至11中任一項(xiàng)所述的擺設(shè)件，其特征在于，所述硬質(zhì)足金殼體形成所述擺設(shè)件形狀而所述軟質(zhì)足金表層形成所述擺設(shè)件的裝飾紋理表面,所述裝飾紋理表面為凹凸紋理表面，所述凹凸紋理表面為絨面、沙面或絨沙面。?
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