[實用新型]一種紫外光源均光裝置有效
| 申請號： | 201320095025.5 | 申請日： | 2013-03-04 |
| 公開（公告）號： | CN203083699U | 公開（公告）日： | 2013-07-24 |
| 發明（設計）人： | 張玉國;孫紅勝;魏建強;王加朋;孫廣尉;任小婉;宋春暉 | 申請（專利權）人： | 北京振興計量測試研究所 |
| 主分類號： | G01J1/08 | 分類號： | G01J1/08;G02B5/02 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 100074 *** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 紫外 光源 裝置 | ||
1.一種紫外光源均光裝置，其特征在于包括：
復數個漫射器，驅動單元；
每個所述的漫射器用于對特定波段的入射紫外光進行均光和聚焦；
所述驅動單元用于根據測試的需要調節相應的漫射器位于光路中。
2.根據權利要求1所述的一種紫外光源均光裝置，其特征在于，所述復數個漫射器連續覆蓋在110nm-400nm的紫外-真空紫外波段。
3.根據權利要求2所述的一種紫外光源均光裝置，其特征在于，所述復數個漫射器包括3個漫射器，所述3個漫射器覆蓋的波段分別為110nm～130nm、130nm～200nm和200nm～400nm。
4.根據權利要求3所述的一種紫外光源均光裝置，其特征在于，所述漫射器一面為平面的漫射面，另一面為拋光的凸面；或者所述平面為拋光面，所述凸面為漫射面；或者平面和凸面均為漫射面。
5.根據權利要求3所述的一種紫外光源均光裝置，其特征在于，所述3個漫射器中的第一漫射器工作波段為110nm～130nm，材料為氟化鋰單晶，其凸面的曲率半徑為81.56mm，整體厚度為4±0.1mm，通光口徑為26mm，焦距數為9；
第二漫射器工作波段為130nm～200nm，材料為氟化鈣單晶，其凸面的曲率半徑為77.35mm，整體厚度為4±0.1mm，通光口徑為26mm，F數為9；
第三漫射器工作波段為200nm～400nm，材料為氟化鈣單晶，其凸面的曲率半徑為168.31mm，整體厚度為6±0.1mm，通光口徑為64mm，F數為9。
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