[實用新型]一種增透濾光片

有效

• 申請號: 201320075882.9
• 申請日: 2013-02-19
• 公開（公告）號: CN203164459U
• 公開（公告）日: 2013-08-28
• 發明（設計）人: 奐微微;黃興橋
• 申請（專利權）人: 東莞五方光電科技有限公司
• 主分類號: G02B5/20
• 分類號: G02B5/20;G02B1/11
• 代理公司: 東莞市冠誠知識產權代理有限公司 44272
• 代理人: 何恒韜

技術領域

本實用新型涉及一種濾光片，特別涉及一種能有效增加可見光透過率的增透濾光片。

背景技術

目前，濾光片之透明玻璃基片的可見光透過率只有92%，而剩下的8%則被透明玻璃基片本身反射掉。在可拍照手機攝像頭、電腦內置攝像頭、汽車攝像頭等數碼成像領域，如果不對濾光片進行增透處理，則CCD/CMOS成像會很差，因此，濾光片的透明玻璃基片上通常都鍍有增透膜，用以增加可見光透過率。可見光主要包括紅光、橙光、黃光、綠光、藍光、紫光，在現有技術中，增透濾光片一般只能對綠光、黃光和藍光進行增透處理，而不能對紅光、橙光和紫光進行有效的增透，因而其增透范圍較窄；再者，現有技術中增透濾光片的增透膜易對IR功能膜（如紅外截止功能膜）產生光干擾問題，因而，不能滿足高精密成像設備的要求。

實用新型內容

本實用新型要解決的技術問題是針對上述現有技術的不足，提供一種不易產生光干擾問題，能對較寬范圍內的可見光進行有效增透，且在380-700nm的可見光波段，其平均反射率低于1%的增透濾光片。

為解決上述技術問題，本實用新型的技術方案是：一種增透濾光片，包括透明玻璃基板及透明玻璃基板上的7層增透膜，該7層增透膜由低折射率的二氧化硅SiO₂膜層和高折射率的二氧化鈦TiO₂膜層多次交替堆疊組成，該7層增透膜從內至外依次為：第1層，SiO₂膜層，厚度為175.5-176nm；第2層，TiO₂膜層，厚度為12.5-12.8nm；第3層，SiO₂膜層，厚度為31.5-32nm；第4層，TiO₂膜層，厚度為68-68.49nm；第5層，SiO₂膜層，厚度為4-4.3nm；第6層，TiO₂膜層，厚度為34-34.4nm；第7層，SiO₂膜層，厚度為85.5-86nm。

本實用新型增透濾光片的制造工藝包括：將透明玻璃基板置于精密真空鍍膜機中，然后設定好膜層厚度參數，最后通過真空鍍膜(例如蒸鍍)方式形成所述的7層增透膜。鍍膜之后的增透濾光片在380-700nm的可見光波段，其平均反射率低于1%。

本實用新型的有益效果是：本實用新型具有7層增透膜，在380-700nm的可見光波段，其平均反射率低于1%，其可見光透過率非常高，不易干擾到功能膜（如紅外截止功能膜）；本實用新型能廣泛應用于數碼像機、數碼錄像機、監控用攝像機、電腦攝像頭、手機攝像、可視電話、電子玩具等CCD或CMOS成像系統設備領域，且能滿足高精密成像設備對增透濾光片的要求。

附圖說明

圖1為本實用新型增透濾光片的整體結構示意圖。

圖2為本實用新型增透濾光片進行光線透射測試的反射率特性圖。

具體實施方式

下面結合附圖對本實用新型的結構原理和工作原理作進一步詳細說明。

如圖1所示，在該具體實施方式中，該增透濾光片100包括透明玻璃基板1及透明玻璃基板1上的7層增透膜2，該7層增透膜2由低折射率的二氧化硅SiO₂膜層21和高折射率的二氧化鈦TiO₂膜層22多次交替堆疊組成，該7層增透膜2從內至外依次為：第1層，SiO₂膜層，厚度為175.5-176nm；第2層，TiO₂膜層，厚度為12.5-12.8nm；第3層，SiO₂膜層，厚度為31.5-32nm；第4層，TiO₂膜層，厚度為68-68.49nm；第5層，SiO₂膜層，厚度為4-4.3nm；第6層，TiO₂膜層，厚度為34-34.4nm；第7層，SiO₂膜層，厚度為85.5-86nm。

在上述技術方案中，二氧化鈦膜層22和二氧化硅膜層21通過真空鍍膜（如真空蒸鍍）方式形成于透明玻璃基板之上，二氧化鈦膜層22和二氧化硅膜層21的層數和厚度是根據二氧化鈦及二氧化硅的折射率，經大量計算而得出的，二氧化鈦具有較高折射率，其在部分光線波段中的折射率參見表一；二氧化硅具有較低折射率，其在部分光線波段中的折射率參見表二。

表一、二氧化鈦在部分光線波段中的折射率：