[實(shí)用新型]撓性排線結(jié)構(gòu)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201320050517.2
• 申請(qǐng)日: 2013-01-18
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN203102900U
• 公開(kāi)（公告）日: 2013-07-31
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 林賢昌
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 達(dá)昌電子科技(蘇州)有限公司
• 主分類號(hào): H01B7/00
• 分類號(hào): H01B7/00;H01B7/04;H01B7/08;H01B7/17;H01B7/02
• 代理公司: 暫無(wú)信息
• 代理人: 暫無(wú)信息

一種撓性排線結(jié)構(gòu)，其特征在于：包括：?

一排線，該排線是由平行排列的復(fù)數(shù)條金屬導(dǎo)線及包覆該些金屬導(dǎo)線的一絕緣層所組成，該排線包括一本體部及設(shè)置于該本體部前端的一對(duì)接部，該些金屬導(dǎo)線于該對(duì)接部上形成復(fù)數(shù)接點(diǎn)，且該些金屬導(dǎo)線中至少有一條該金屬導(dǎo)線上設(shè)有一接地部；以及一導(dǎo)電層，設(shè)置于該本體部，該接地部是延伸突出于該對(duì)接部外且朝著該導(dǎo)電層延伸并電性連接于該導(dǎo)電層。?

如權(quán)利要求1所述的撓性排線結(jié)構(gòu)，其特征在于：該絕緣層包括：一第一絕緣層；及一第二絕緣層，該第二絕緣層設(shè)置于該第一絕緣層下方，且其至少一端較該第一絕緣層為長(zhǎng)而形成一承載面，該些金屬導(dǎo)線被包覆于該第一絕緣層及該第二絕緣層之間，該些金屬導(dǎo)線的末端延伸至該承載面上以形成該對(duì)接部，該接地部是延伸突出于該承載面外且反折至該承載面的下方，該導(dǎo)電層設(shè)置于該第二絕緣層的下側(cè)且包覆于至少一部份該接地部。?

如權(quán)利要求2所述的撓性排線結(jié)構(gòu)，其特征在于：該承載面的下方設(shè)有一補(bǔ)強(qiáng)板，該接地部是延伸至該補(bǔ)強(qiáng)板的下側(cè)。?

如權(quán)利要求2所述的撓性排線結(jié)構(gòu)，其特征在于：該承載面的下方設(shè)有一補(bǔ)強(qiáng)板，該接地部是延伸至該承載面與該補(bǔ)強(qiáng)板之間。?

如權(quán)利要求1所述的撓性排線結(jié)構(gòu)，其特征在于：該絕緣層包括：一第一絕緣層，其為條狀體且具有相對(duì)兩端；及一第二絕緣層，其為條狀體且具有相對(duì)兩端，該第二絕緣層設(shè)置于該第一絕緣層下方，且其至少一端較該第一絕緣層為長(zhǎng)而形成一承載面，該些金屬導(dǎo)線被包覆于該第一絕緣層及該第二絕緣層之間，該些金屬導(dǎo)線的末端延伸至該承載面上以形成該對(duì)接部，該承載面包括一頂面及折迭于該頂面下方的一底面，該些接點(diǎn)是自該頂面延伸至該底面，該接地部是延伸突出于該承載面外且延伸至該本體部的下側(cè)，該導(dǎo)電層設(shè)置于該本體部的下側(cè)且包覆于至少一部份該接地部。?

如權(quán)利要求5所述的撓性排線結(jié)構(gòu)，其特征在于：更包括：一補(bǔ)強(qiáng)板，該對(duì)接部沿著該補(bǔ)強(qiáng)板的上、下側(cè)繞設(shè)，該承載面的該頂面設(shè)置于該補(bǔ)強(qiáng)板上側(cè)，該承載面的該底面設(shè)置于該補(bǔ)強(qiáng)板下側(cè)。?

如權(quán)利要求5所述的撓性排線結(jié)構(gòu)，其特征在于：該對(duì)接部的前端設(shè)有一保護(hù)固定部，該保護(hù)固定部設(shè)置于該本體部下側(cè)，該接地部是延伸突出于該保護(hù)固定部外且延伸至該本體部的下側(cè)。?

如權(quán)利要求1至權(quán)利要求6中任一項(xiàng)所述的撓性排線結(jié)構(gòu)，其特征在于：該對(duì)接部的前端設(shè)有一保護(hù)固定部，該接地部是延伸突出于該保護(hù)固定部外且延伸至該本體部的下側(cè)。?

如權(quán)利要求1至權(quán)利要求7中任一項(xiàng)所述的撓性排線結(jié)構(gòu)，其特征在于：更包括：一保護(hù)層，覆蓋于該接地部。?

如權(quán)利要求1至權(quán)利要求7中任一項(xiàng)所述的撓性排線結(jié)構(gòu)，其特征在于：該接地部與該金屬導(dǎo)線是為一體成形，且該接地部是朝著該本體部的下側(cè)延伸。?