[實用新型]雙極型縱向平面式晶體管有效
| 申請號: | 201320048768.7 | 申請日: | 2013-01-30 |
| 公開(公告)號: | CN203179894U | 公開(公告)日: | 2013-09-04 |
| 發明(設計)人: | 李紅偉;吳耀輝 | 申請(專利權)人: | 蘇州同冠微電子有限公司 |
| 主分類號: | H01L29/732 | 分類號: | H01L29/732;H01L29/06 |
| 代理公司: | 常州佰業騰飛專利代理事務所(普通合伙) 32231 | 代理人: | 徐琳淞 |
| 地址: | 215617 江蘇省張家港市*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 雙極型 縱向 平面 晶體管 | ||
1.雙極型縱向平面式晶體管,其特征在于:包括P型半導體襯底(1);位于P型半導體襯底(1)頂部的N型非本征集電區(2)和摻入P型雜質元素的下隔離層(5);位于P型半導體襯底(1)上方的本征集電區(4);位于本征集電區(4)頂部的摻入N型雜質元素且連接非本征集電區(2)的插塞(6);位于本征集電區(4)頂部的摻入P型雜質元素且與下隔離層(5)連通的上隔離層(7);位于本征集電區(4)頂部的摻入P型雜質元素的本征基區(8);位于本征基區(8)頂部的摻入P型雜質的非本征基區(9);位于本征集電區(4)頂部的第一電介質膜層(10);位于本征基區(8)頂部的摻入N型雜質的發射區(11);位于插塞(6)頂部的摻入N型雜質的集電極區(12);位于發射區(11)和集電極區(12)上方的與第一電介質膜層(10)厚度相等的第二電介質膜層(13);位于第一電介質膜層(10)和第二電介質膜層(13)中,分別位于發射區(11)、非本征基區(9)、集電極區(12)的區域的引線孔(14);以及設置在前述引線孔(14)內的金屬布線。
2.根據權利要求1所述的雙極型縱向平面式晶體管,其特征在于:所述非本征集電區(2)的方塊電阻為11~15歐姆/方塊。
3.根據權利要求1所述的雙極型縱向平面式晶體管,其特征在于:所述插塞(6)的方塊電阻為1~3歐姆/方塊。
4.根據權利要求1所述的雙極型縱向平面式晶體管,其特征在于:所述本征基區(8)的方塊電阻為290~310歐姆/方塊。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于蘇州同冠微電子有限公司,未經蘇州同冠微電子有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201320048768.7/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:一種薄膜晶體管、陣列基板和顯示裝置
- 下一篇:一種高安全性電涌保護器
- 同類專利
- 專利分類





