[實用新型]一種硅片投料模塊及對應的清洗設備有效
| 申請號: | 201320042515.9 | 申請日: | 2013-01-23 |
| 公開(公告)號: | CN203127758U | 公開(公告)日: | 2013-08-14 |
| 發明(設計)人: | 劉成龍;張前;何雙權;張永健;肖偉;沈永勝 | 申請(專利權)人: | 尚德太陽能電力有限公司;無錫尚德太陽能電力有限公司 |
| 主分類號: | B65G49/07 | 分類號: | B65G49/07;B65G15/20;H01L31/18;H01L21/677 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 201112 上海*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 硅片 投料 模塊 對應 清洗 設備 | ||
1.一種硅片投料模塊,用于將硅片投送進清洗設備,所述清洗設備包括位于清洗設備外側的外主動滾輪,其特征在于,所述硅片投料模塊包括投料機架、設置在所述投料機架上的從動滾輪和投料臺,所述從動滾輪和投料臺分別位于靠近和遠離所述外主動滾輪的一側,所述待投料的硅片放置在投料臺上,所述從動滾輪通過多條傳送帶連接在外主動滾輪上且在外主動滾輪的帶動下轉動,所述多條傳送帶頂端形成一硅片傳送面,所述硅片傳送面上垂直并列設置有多條導向條,所述硅片被限定在導向條間且在硅片傳送面上進行導向傳送。
2.根據權利要求1所述的硅片投料模塊,其特征在于,所述硅片為沾染有液體的濕硅片,所述投料機架下端對應設置有集液托盤,所述集液托盤用于匯集從所述濕硅片上滴落的液體。
3.根據權利要求2所述的硅片投料模塊,其特征在于,所述清洗設備具有清洗槽,所述集液托盤為簸箕形,所述集液托盤與所述清洗槽相鄰的一端為簸箕口且開放延伸至所述清洗槽,所述集液托盤中的液體匯集流入所述清洗槽。
4.根據權利要求2所述的硅片投料模塊,其特征在于,所述集液托盤、導向條、外主動滾輪和從動滾輪的材質為聚乙烯、聚丙烯、聚對苯二甲酸丁二醇酯、聚偏氟乙烯或聚四氟乙烯,所述傳送帶的材質為橡膠。
5.根據權利要求1所述的硅片投料模塊,其特征在于,所述從動滾輪和外主動滾輪間并列設置有支撐柱或輔助從動滾輪,所述支撐柱或輔助從動滾輪用于支撐傳送帶及其上的硅片。
6.根據權利要求1所述的硅片投料模塊,其特征在于,所述外主動滾輪和從動滾輪上對應開設有凹槽,所述傳送帶設置在對應的凹槽中。
7.根據權利要求1所述的硅片投料模塊,其特征在于,所述傳送帶的設置數量確保每片硅片在傳送帶上傳送時,至少通過兩條傳送帶傳送,所述硅片為125mm×125mm或156mm×156mm的硅片。
8.根據權利要求7所述的硅片投料模塊,其特征在于,所述導向條與傳送帶間隔設置,每兩個相鄰的導向條間至少有兩條傳送帶。
9.根據權利要求1所述的硅片投料模塊,其特征在于,所述投料臺架設在所述硅片傳送面上端,且位于所述從動滾輪和外主動滾輪之間,所述多條導向條的頂端固定設置在所述投料臺的底端。
10.一種包括權利要求1至9任一項所述的硅片投料模塊的清洗設備。
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