[實(shí)用新型]有機(jī)物高溫清洗機(jī)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201320016428.6
• 申請(qǐng)日: 2013-01-14
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN203021507U
• 公開(kāi)（公告）日: 2013-06-26
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 荀慶華
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 無(wú)錫銳騰儀器設(shè)備有限公司
• 主分類號(hào): C10B53/00
• 分類號(hào): C10B53/00
• 代理公司: 暫無(wú)信息
• 代理人: 暫無(wú)信息

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及一種清洗設(shè)備，尤其涉及一種有機(jī)物高溫清洗機(jī)。

背景技術(shù)

有機(jī)物是有機(jī)化合物的簡(jiǎn)稱。自然界中已知的有機(jī)物達(dá)8000多萬(wàn)種，數(shù)量遠(yuǎn)遠(yuǎn)超過(guò)無(wú)機(jī)物，有機(jī)化合物除少數(shù)以外，一般都能燃燒，和無(wú)機(jī)物相比，它們的熱穩(wěn)定性比較差，電解質(zhì)受熱容易分解。有機(jī)物的熔點(diǎn)較低，一般不超過(guò)400℃。有機(jī)物之間的反應(yīng)，大多是分子間的反應(yīng)，往往需要一定的活化能，因此反應(yīng)緩慢，往往需要加入催化劑等方法。

現(xiàn)有有機(jī)物清洗一般采用溶劑(試劑)，這種清洗方式有以下缺點(diǎn)：1、溶劑(試劑)清洗需要人工介入；2、費(fèi)力的手工清洗，以及因此增加的零件損壞。3、溶劑(試劑)揮發(fā)的有毒氣體會(huì)對(duì)人體造成危害。4、溶劑(試劑)清洗后生成的廢液會(huì)污染環(huán)境，廢液的處理也相應(yīng)會(huì)增加成本。

實(shí)用新型內(nèi)容

為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本實(shí)用新型的目的是提供一種可以避免溶劑和試劑的使用以及費(fèi)力的手工清洗的有機(jī)物高溫清洗機(jī)。

本實(shí)用新型的有機(jī)物高溫清洗機(jī)，包括裂解室和控制箱，裂解室的頂部設(shè)有排風(fēng)管和風(fēng)機(jī)，裂解室內(nèi)部設(shè)有裂解加熱器，裂解加熱器外設(shè)有加熱器罩，加熱器罩上焊有多層擱條，擱條上放置有托盤(pán)，托盤(pán)數(shù)量可自行調(diào)節(jié)，托盤(pán)內(nèi)含有裂解催化劑。

進(jìn)一步的，所述裂解室底部放置落灰盤(pán)。

進(jìn)一步的，所述裂解室內(nèi)設(shè)有保溫層。

借由上述方案，本實(shí)用新型的有機(jī)物高溫清洗機(jī)至少具有以下優(yōu)點(diǎn)：

1、避免溶劑和試劑的使用以及費(fèi)力的手工清洗；2、免去了溶劑或試劑的費(fèi)用；3、免去了對(duì)廢物的跟蹤處理；4、清洗過(guò)程完全自動(dòng)化，清洗過(guò)程無(wú)需人工照看。

附圖說(shuō)明

圖1是本實(shí)用新型有機(jī)物高溫清洗機(jī)的結(jié)構(gòu)圖；

圖2是裂解加熱器的結(jié)構(gòu)剖視圖。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖和實(shí)施例，對(duì)本實(shí)用新型的具體實(shí)施方式作進(jìn)一步詳細(xì)描述。以下實(shí)施例用于說(shuō)明本實(shí)用新型，但不用來(lái)限制本實(shí)用新型的范圍。

如圖1和圖2所示，一種有機(jī)物高溫清洗機(jī)，包括裂解室1和控制箱2，裂解室1的頂部設(shè)有排風(fēng)管3和風(fēng)機(jī)4，裂解室1內(nèi)部設(shè)有裂解加熱器5，裂解加熱器5外設(shè)有加熱器罩6，加熱器罩6上焊有多層擱條7，擱條7上放置有托盤(pán)8，托盤(pán)8數(shù)量可自行調(diào)節(jié)，托盤(pán)8內(nèi)含有裂解催化劑。

進(jìn)一步的，所述裂解室1底部放置落灰盤(pán)10。

進(jìn)一步的，所述裂解室1內(nèi)設(shè)有保溫層9。

本實(shí)用新型有機(jī)物高溫清洗機(jī)的操作步驟如下：

1.將沾有有機(jī)物的器皿(零件)置入裂解室內(nèi)，自動(dòng)門(mén)鎖閉合。

2.負(fù)壓裝置啟動(dòng)，使裂解室保持負(fù)壓狀態(tài)。

3.在無(wú)氧下加熱至A℃，并恒溫B小時(shí)。

4.繼續(xù)升溫至C℃，恒溫D小時(shí)。

5.D小時(shí)后，器皿表面和內(nèi)部的有機(jī)物已全部催化裂解成氣化狀態(tài)排出。

6.裂解室繼續(xù)降溫到常溫，自動(dòng)門(mén)鎖開(kāi)啟，清洗完成。

以上所述僅是本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施方式，應(yīng)當(dāng)指出，對(duì)于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，在不脫離本實(shí)用新型技術(shù)原理的前提下，還可以做出若干改進(jìn)和變型，這些改進(jìn)和變型也應(yīng)視為本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。