[發(fā)明專利]具有可偏轉(zhuǎn)電子束的X射線設(shè)備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310757041.0
• 申請日: 2013-12-06
• 公開（公告）號: CN103854940B
• 公開（公告）日: 2017-10-03
• 發(fā)明（設(shè)計）人: C·奧林格;C·米歇爾森;A·克萊內(nèi);J·格拉夫
• 申請（專利權(quán)）人: 布魯克AXS有限公司
• 主分類號: H01J35/14
• 分類號: H01J35/14;H01J35/30
• 代理公司: 中國國際貿(mào)易促進委員會專利商標事務(wù)所11038
• 代理人: 宋巖

1.一種X射線設(shè)備(1)，包括：

電子束源(2)，發(fā)射電子束(3)，

靶(4)，電子束(3)被引導(dǎo)到其上，從而在靶(4)上形成焦斑(5；5a，5b)，

X射線光學元件(6)，收集來自X射線光學元件(6)的焦點(7)的X射線，并形成X射線束(8)，以及

樣品位置(9)，X射線束(8)被引導(dǎo)到該樣品位置(9)處，

其特征在于，

X射線設(shè)備(1)還包括適用于使焦斑(5；5a，5b)在靶(4)上移動的靜電或電磁電子束偏轉(zhuǎn)裝置(10)，并且在偏轉(zhuǎn)裝置(10)被調(diào)節(jié)的情況下，所述電子束(3)的焦斑(5；5a，5b)與X射線光學元件(6)的焦點(7)重合，以及

在任意方向(x，y，z)上，焦斑(5；5a，5b)的擴展范圍比靶(4)的擴展范圍小至少F倍，F(xiàn)＝1.5。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備(1)，其特征在于，該靶(4)為液態(tài)金屬噴射靶(4)。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的設(shè)備(1)，其特征在于，在與液態(tài)金屬噴射靶傳播方向(x)垂直并與電子束(3)的傳播方向(z)垂直的方向(y)上，焦斑(5；5a，5b)的擴展范圍比液態(tài)金屬噴射靶(4)的擴展范圍小至少FT倍，F(xiàn)T＝2。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的設(shè)備(1)，其特征在于，在與液態(tài)金屬噴射靶傳播方向(x)垂直并與電子束(3)的傳播方向(z)垂直的方向(y)上，焦斑(5；5a，5b)的擴展范圍比液態(tài)金屬噴射靶(4)的擴展范圍小至少FT倍，F(xiàn)T＝5。

5.根據(jù)前面的權(quán)利要求1-4中的一項所述的設(shè)備(1)，其特征在于，靶(4)具有曲面(12)，具體地，具有曲率半徑R，0＜R≤10mm。

6.根據(jù)前面的權(quán)利要求1-4中的一項所述的設(shè)備(1)，其特征在于，靶(4)具有曲面(12)，具體地，具有曲率半徑R，0＜R≤1mm。

7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的設(shè)備(1)，其特征在于，電子束偏轉(zhuǎn)裝置(10)適用于在靶面(12)彎曲的平面(yz)內(nèi)使焦斑(5；5a，5b)在靶(4)上移動。

8.根據(jù)權(quán)利要求1-4中的一項所述的設(shè)備(1)，其特征在于，該X射線設(shè)備(1)還包括適用于將焦斑(5；5a，5b)的斑面積(Aa，Ab)改變至少FS倍的靜電或電磁電子束聚焦裝置(11)，F(xiàn)S＝2。

9.根據(jù)權(quán)利要求1-4中的一項所述的設(shè)備(1)，其特征在于，該X射線設(shè)備(1)還包括適用于將焦斑(5；5a，5b)的斑面積(Aa，Ab)改變至少FS倍的靜電或電磁電子束聚焦裝置(11)，F(xiàn)S＝5。

10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的設(shè)備(1)，其特征在于，該電子束聚焦裝置(11)包括一個或更多個電磁線圈和/或一個或更多個充電電極。

11.根據(jù)權(quán)利要求1-4中的一項所述的設(shè)備(1)，其特征在于，該電子束偏轉(zhuǎn)裝置(10)適用于使焦斑(5；5a，5b)在靶上移動至少距離D，D＝50μm。

12.根據(jù)權(quán)利要求1-4中的一項所述的設(shè)備(1)，其特征在于，該電子束偏轉(zhuǎn)裝置(10)適用于使焦斑(5；5a，5b)在靶上移動至少距離D，D＝200μm。

13.根據(jù)權(quán)利要求1-4中的一項所述的設(shè)備(1)，其特征在于，該電子束偏轉(zhuǎn)裝置(10)適用于在與電子束(3)的傳播方向(z)垂直的兩個獨立的方向(x，y)上使電子束(3)偏轉(zhuǎn)，具體地，其中，所述兩個獨立的方向(x，y)彼此垂直。

14.根據(jù)權(quán)利要求1-4中的一項所述的設(shè)備(1)，其特征在于，該電子束偏轉(zhuǎn)裝置(10)包括一個或更多個電磁線圈和/或一個或更多個充電電極。

15.根據(jù)權(quán)利要求1-4中的一項所述的設(shè)備(1)，其特征在于，該X射線光學元件(6)包括多層鏡和/或毛細管X射線光學元件，該多層鏡具體是Montel鏡或者鏡或者具有相對于入射X射線的徑向和縱向方向二者彎曲的單個反射面的鏡子。

16.根據(jù)權(quán)利要求1-4中的一項所述的設(shè)備(1)，其特征在于，倍數(shù)F＝2。

17.根據(jù)權(quán)利要求1-4中的一項所述的設(shè)備(1)，其特征在于，倍數(shù)F＝5。