[發明專利]大體積微波等離子體制備類金剛石薄膜的裝置無效
| 申請號: | 201310754676.5 | 申請日: | 2013-12-31 |
| 公開(公告)號: | CN103726032A | 公開(公告)日: | 2014-04-16 |
| 發明(設計)人: | 熊禮威;崔曉慧;汪建華;翁俊;龔國華 | 申請(專利權)人: | 武漢工程大學 |
| 主分類號: | C23C16/517 | 分類號: | C23C16/517;C23C16/511;C23C16/513;C23C16/26 |
| 代理公司: | 湖北武漢永嘉專利代理有限公司 42102 | 代理人: | 崔友明 |
| 地址: | 430074 湖北*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 體積 微波 等離子體 制備 金剛石 薄膜 裝置 | ||
1.一種大體積微波等離子體制備類金剛石薄膜的裝置,其特征在于,包括諧振腔、石英管反應腔、多個微波源和多個微波輸入系統,所述微波源產生的微波通過所述微波輸送系統送入所述諧振腔內,所述石英管反應腔位于所述諧振腔內,所述諧振腔為空心五棱柱,空心五棱柱的五個面分別對應不同的微波源和微波輸入系統。
2.根據權利要求1所述的大體積微波等離子體制備類金剛石薄膜的裝置,其特征在于,所述石英管反應腔的一端設有反應氣體輸入口,另一端設有真空抽氣接口。
3.根據權利要求2所述的大體積微波等離子體制備類金剛石薄膜的裝置,其特征在于,所述反應氣體輸入口與氣體流量計連接。
4.根據權利要求2所述的大體積微波等離子體制備類金剛石薄膜的裝置,其特征在于,所述真空抽氣接口與真空泵和真空測量連接。
5.根據權利要求1所述的大體積微波等離子體制備類金剛石薄膜的裝置,其特征在于,所述石英管反應腔上設有觀察窗。
6.根據權利要求1所述的大體積微波等離子體制備類金剛石薄膜的裝置,其特征在于,所述石英管反應腔內設有基片架。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





