[發(fā)明專利]一種準三維微、納米柱陣列的制作方法

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• 申請?zhí)枺?/td>: 201310747737.5
• 申請日: 2013-12-31
• 公開（公告）號: CN103738913A
• 公開（公告）日: 2014-04-23
• 發(fā)明（設計）人: 周建華;潘益;李萬博
• 申請（專利權）人: 中山大學
• 主分類號: B81C1/00
• 分類號: B81C1/00
• 代理公司: 廣州粵高專利商標代理有限公司 44102
• 代理人: 任重

1.一種準三維微米或納米柱陣列的制作方法，其特征在于，包括以下步驟：

S1.?制備準三維微、納米柱陣列的原始模板，

S2.?將彈性材料的預聚體涂于步驟S1所得的原始模板上，放入烘箱或熱壓機中加熱，冷卻，脫模后，得反相的微、納米坑陣列的彈性印章；

S3.?加入所需的材料，通過步驟S2所得的彈性印章為模板，充滿，固化，脫模后，制得準三維微、納米柱陣列。

2.根據權利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述的準三維微、納米柱陣列上包括底板和微、納米凸起，所述的微、納米凸起的上部的橫截面比根部的橫截面大。

3.根據權利要求2所述的制作方法，其特征在于，所述的準三維微、納米柱陣列為蘑菇狀陣列、抹刀狀頂端柱陣列或吸盤狀頂端柱陣列等。

4.根據權利要求1所述的制作方法，其特征在于，步驟S1制備原始模板的方法為電子束刻蝕法、光刻技術或化學腐蝕法等。

5.根據權利要求1所述的制作方法，其特征在于，步驟S3所述的常規(guī)方法為加熱-冷卻成型，具體步驟為：將彈性印章和一塊平整的熱塑性塑料貼緊，在它們的上下方均加一塊硬質玻璃，然后用夾子夾緊，置于烘箱中加熱，取出冷卻至室溫，脫模，即得。

6.根據權利要求1所述的制作方法，其特征在于，步驟S3所述的常規(guī)方法為采用平板熱壓裝置熱壓成型。

7.根據權利要求1所述的制作方法，其特征在于，步驟S3所述的常規(guī)方法為澆注成型，具體步驟為：可固化的材料澆注在彈性模板印章上，固化，脫模，即得。

8.根據權利要求1所述的制作方法，其特征在于，步驟S3所述的常規(guī)方法為準三維微米或納米柱陣列，具體步驟為：在惰性硬質平整固體表面旋涂一層黏流態(tài)可固化的材料，然后將彈性印章壓到黏流態(tài)可固化的材料的表面，固化，脫模，即得。

9.根據權利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述的彈性材料為具有彈性、能固化并且固化后能耐高溫的材料。

10.根據權利要求9所述的制作方法，其特征在于，所述的彈性材料為有機硅橡膠和記憶形狀合金。