[發明專利]多層共擠雙向拉伸光反射聚酯薄膜及其制造方法

有效

• 申請號: 201310740039.2
• 申請日: 2013-12-27
• 公開（公告）號: CN103753920A
• 公開（公告）日: 2014-04-30
• 發明（設計）人: 孫囡;胡俊祥;羅春明;周柯
• 申請（專利權）人: 四川東方絕緣材料股份有限公司
• 主分類號: B32B27/18
• 分類號: B32B27/18;B32B27/36;B32B3/24;B32B37/00
• 代理公司: 成都蓉信三星專利事務所(普通合伙) 51106
• 代理人: 劉克勤

技術領域

本發明屬于光學聚酯薄膜及其制造，涉及一種多層共擠雙向拉伸光反射聚酯薄膜及其制造方法。本發明多層共擠雙向拉伸光反射聚酯薄膜具有高反射率和耐老化性能，適用于LED照明、液晶顯示器等相關組件的制造，可應用在液晶面板或面狀光源的部件、照明器具、照明廣告牌等領域。

背景技術

光反射膜主要應用在液晶顯示面板或面狀光源的部件、照明器具、照明廣告牌等領域，其主要作用是避免光線漏出導光板底部，且高效率（最好是無損耗地）反射的光線，從而使光損耗降低，為液晶顯示面板或面狀光源等提供足夠的光飽和度。與普通照明不同，LED照明、液晶顯示裝置需要光反射率高（96%以上）和散射效果好的光反射板，以便提高光源的利用率。現有技術中，國內外制備光反射膜的方法主要有：采用磁控濺射技術在聚對苯二甲酸乙二醇酯（PET）基材薄膜表面鍍上金屬膜、或采用涂布法在PET基材薄膜表面涂上一層含有球狀顆粒的涂布層、或直接在PET樹脂中加入無機顆粒、不相容樹脂制得PET光反射膜。現有技術的不足之處在于，一是在聚對苯二甲酸乙二醇酯基膜表面涂覆的方法制造工藝較為復雜，設備投資大；二是通過微小氣泡或孔洞對光線產生反射作用的方法在提高光反射率方面有限，難以達到需求，同時，隨著光反射膜中的氣泡或孔洞數目的提高，使得光反射膜變軟，拉伸強度降低。

發明內容

本發明的目的旨在克服上述現有技術中的不足，提供一種多層共擠雙向拉伸光反射聚酯薄膜及其制造方法。本發明采用多層共擠技術與反射膜的制備方法相結合，利用基體樹脂與功能樹脂的收縮率差異，制備光反射率>98%的高強度光反射聚酯薄膜。

本發明的內容是：多層共擠雙向拉伸光反射聚酯薄膜，其特征是：該薄膜從上表面到下表面依次由A層薄膜、B層薄膜和A層薄膜共3層薄膜復合組成；該薄膜的總厚度為0.050mm～0.350mm，其中：A層薄膜的厚度之和是薄膜總厚度的10%～20%、B層薄膜的厚度是薄膜總厚度的80%～90%；

所述A層薄膜的材料質量百分比組成是62.5%～79.88%聚對苯二甲酸乙二醇酯切片、20%～35%無機顆粒、0.05%～1%熱穩定劑、0.05%～1%光穩定劑、以及0.02%～0.5%熒光增白劑；

所述無機顆粒是粒子的平均直徑為0.50～15μm的二氧化鈦、硫酸鋇、碳酸鈣、二氧化硅、氧化鋅、氧化銻、硫化鋅、重晶石中的兩種或兩種以上的混合物；

所述熱穩定劑是中國化工市場常用的H10熱穩定劑；

所述光穩定劑是中國化工市場常用的受阻胺光穩定劑，如770光穩定劑、EV-761光穩定劑、EV-762光穩定劑；

所述熒光增白劑是中國化工市場常用的OB-1（或稱OB1）熒光增白劑；

所述B層薄膜的材料質量百分比組成是68%～80%聚對苯二甲酸乙二醇酯切片、19.9%～30%功能樹脂、0.05%～1%熱穩定劑、以及0.05%～1%光穩定劑；

所述熱穩定劑是中國化工市場常用的H10熱穩定劑；

所述光穩定劑是中國化工市場常用的受阻胺光穩定劑，如770光穩定劑、EV-761光穩定劑、EV-762光穩定劑；

所述B層薄膜具有多孔結構；即所述B層薄膜是多孔的，由于基體樹脂與功能樹脂的收縮率差異，在雙向拉伸過程中產生不同程度的收縮，從而在基體樹脂與功能樹脂之間形成微孔；光線通過微孔進行反射，實現以漫反射為主的高反射率；

所述功能樹脂是指與聚酯（簡稱PET）收縮率、結晶度不同的不相容樹脂，所述功能樹脂可以是線性高密度聚乙烯（例如：中國化工市場常用的5000S、6098、2911）、線性低密度聚乙烯（例如：中國化工市場常用的LLDPE7042）、聚丙烯、聚苯乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚偏氟乙烯中的任一種；

本發明的內容中：所述無機顆粒較好的為二氧化鈦、二氧化硅和硫酸鋇的混合物，或為金紅石型二氧化鈦和硫酸鋇兩種的混合物。

本發明的另一內容是：多層共擠雙向拉伸光反射聚酯薄膜的制造方法，其特征是包括下列步驟：

a、制備A層薄膜混合料：

按62.5%～79.88%聚對苯二甲酸乙二醇酯切片（簡稱聚酯切片）、20%～35%無機顆粒、0.05%～1%熱穩定劑、0.05%～1%光穩定劑、以及0.02%～0.5%熒光增白劑的質量百分比組成取各原料，投入料倉中混合均勻，經除水干燥后，通過雙螺桿擠出機在265℃～285℃的溫度下熔融擠出、造粒，制得A層薄膜混合料，備用；