[發明專利]補給裝置

在審

• 申請號: 201310737057.5
• 申請日: 2013-12-27
• 公開（公告）號: CN104233467A
• 公開（公告）日: 2014-12-24
• 發明（設計）人: 張笑英;洪寧皓
• 申請（專利權）人: LG矽得榮株式會社
• 主分類號: C30B29/06
• 分類號: C30B29/06;C30B15/02
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司 31100
• 代理人: 茅翊忞

本申請要求2013年7月11日提交的韓國專利申請No.10-2013-0066650的權益，其如在本文中完全闡述一樣通過引用結合于此。

技術領域

本申請涉及補給原材料的補給裝置。

背景技術

一般來說，單晶錠生長設備可包括具有限定在其中的空間的室、安裝在室中以允許多晶原材料被引入其中并在其中熔化的坩堝、將坩堝加熱以熔化多晶原材料的加熱器、以及將晶種浸沒在容納在坩堝中的熔融液體內并逐漸提升正在生長的單晶錠的升降裝置。

為了便于將原材料引入定位在室中的坩堝，需要補給原材料的裝置。補給裝置形成為設有引入端口、排放端口以及用于存儲原材料的內部空間的容器形狀。當該空間填充有原材料時，排放端口關閉，且當原材料被供應至坩堝時，排放端口打開。

當原材料被第一次引入坩堝時可使用補給裝置，且當容納熔融液體的坩堝補給原材料時，也可使用補給裝置。

為了將原材料供應至坩堝，通過升降裝置降低補給裝置以鄰接室中的坩堝。此外，當補給裝置定位成鄰接坩堝時，補給裝置的排放端口可打開，且所存儲的原材料可被引入坩堝。由于補給裝置非常靠近坩堝中的熔融液體用以原材料的再供應，在補給過程中，補給裝置可能被熔融液體污染。

發明內容

各實施例提供了一種補給裝置，其能夠防止由于熔融液體而帶來的污染和對該補給裝置周圍的構成物的損壞。

在一個實施例中，補給裝置包括：設有引入端口和排放端口的本體，包括多個分開的蓋的蓋單元，每個蓋連接至本體的一端并適于圍繞本體的一端旋轉，以及打開和關閉調節器，打開和關閉調節器支承每個蓋的一個表面并圍繞每個蓋的連接至本體的一端的部分旋轉每個蓋。

該蓋單元可形成為在其中心處具有開口的板形狀，通過將在其中心處具有開口的板分成至少兩件來形成該蓋。

本體的一端的外周表面可設有凸起，且每個蓋連接至該凸起。

每個蓋可包括：蓋板，蓋板設有上表面、下表面、定位在上表面與下表面之間的多個側表面，以及從側表面中的一個突出的延伸部分；以及將該延伸部分連接至凸起的連接部分。

該連接部分可包括：第一至第三螺母；第一固定螺栓，該第一固定螺栓設有具有第一通孔的一端和通過刺穿凸起聯接至第一螺母的另一端；第二固定螺栓，該第二固定螺栓設有具有第二通孔的一端和通過刺穿凸起聯接至第二螺母的另一端；以及連接螺栓，該連接螺栓通過穿過第一通孔、延伸部分和第二通孔而聯接至第三螺母，其中，蓋板圍繞連接螺栓旋轉。

刺穿凸起的第一固定螺栓和第二固定螺栓中的每個的橫截面可具有多邊形或十字形形狀。

打開和關閉調節器可包括：支承錐體，該支承錐體支承每個蓋板的下表面的一個區域；以及支承件，該支承件連接至支承錐體的上端并支承該支承錐體。

蓋板的旋轉角度可通過支承錐體的垂直運動進行調節。

該支承錐體在其中心處可設有允許支承件插入其中的溝槽，其中，支承件的插入溝槽的一端可聯接至支承錐體的底部。

本體的相鄰于引入端口的外周表面可設有沿水平方向突出的中斷凸起。

該補給裝置還可包括引導部分，該引導部分沿本體的徑向延伸，兩端固定至本體的相鄰于引入端口的兩個不同區域，并設有允許支承件插入其中的通孔。

填充本體的材料可以是具有范圍從0.5mm至100mm直徑的多晶體塊。

在另一實施例中，補給裝置包括：本體，該本體包含引入端口、排放端口以及布置在引入端口與排放端口之間的中空刺穿部分；蓋單元，該蓋單元包含多個蓋，每個蓋連接至本體的相鄰于排放端口的一端；以及打開和關閉調節器，該打開和關閉調節器支承每個蓋并旋轉每個蓋以打開和關閉排放端口。

當蓋關閉排放端口時，該蓋形成為板形狀，所述板被分成多件并在其中心處具有開口。

該打開和關閉調節器包括：支承錐體，該支承錐體支承每個蓋的下表面的一個區域；以及支承件，所述支承件連接至支承錐體的上端并支承該支承錐體。

每個蓋可通過支承錐體的垂直運動圍繞其連接至本體的一部分旋轉。

該補給裝置還可包括引導部分，該引導部分沿本體的徑向延伸，兩端固定至本體的相鄰于引入端口的兩個不同區域，并設有允許支承件插入其中的通孔。

該引導部分可形成為將被彎曲，引入端口通過彎曲引導部分而可被分成第一引入端口和第二引入端口，并且第一引入端口的尺寸可不同于第二引入端口的尺寸。