[發明專利]稀土拋光粉及其制備方法

無效

• 申請號: 201310727899.2
• 申請日: 2013-12-25
• 公開（公告）號: CN103756571A
• 公開（公告）日: 2014-04-30
• 發明（設計）人: 趙月昌;高瑋;高璐;蒙素玲;郝祥;楊筱瓊
• 申請（專利權）人: 上海華明高納稀土新材料有限公司
• 主分類號: C09G1/02
• 分類號: C09G1/02;C09K3/14
• 代理公司: 上海精晟知識產權代理有限公司 31253
• 代理人: 左祝安

技術領域

本發明涉及一種稀土拋光粉及其制備方法，特別涉及一種適用于手機觸控玻璃、液晶顯示和光學玻璃等光學光電信息產業精密器件的表面拋光的稀土拋光粉及其制備方法。

背景技術

目前，各種玻璃材料被廣泛使用，而這些材料被應用前都需經過必要的表面拋光。早期主要使用氧化鋯、氧化鐵或二氧化硅等材料對各種玻璃表面進行拋光，近年來，從拋光效率及精度方面來考慮，稀土氧化物（特別是氧化鈰）為主要成分的拋光材料被認為更適合于玻璃材料的表面拋光。

隨著電子信息技術的迅猛發展，透鏡、平板玻璃、液晶顯示器（LCD）、眼鏡、光學元件及陶瓷材料等玻璃基材的需求大大增加，對于拋光材料的精度和拋光速率也提出了更高的要求，這就促使生產廠家不斷提高產品檔次，以適應新技術新產品的要求，稀土拋光粉已成為當今適用范圍廣、用量大、技術含量高的稀土應用產品。

而稀土拋光粉在使用過程中，通常是將拋光粉分散在水等分散介質中形成漿液的狀態下使用。鑒于稀土拋光粉真密度較大，導致拋光粉在使用過程中容易沉淀，導致拋光粉的利用率較低。

另外，拋光粉一般是循環使用的，因此拋光粉本身會粉碎和混入作為被研磨物的玻璃組分，在拋光粉沉淀時，它的沉淀物會非常硬。

如果產生這種現象，首先，不能維持循環使用期間的給定濃度漿液的組成或濃度，因此研磨效率降低。其次，沉淀物變硬時，被研磨物的玻璃表面容易附著磨粒，因此需要進行從玻璃表面除去磨粒的作業。所以所謂的“玻璃表面洗凈性”會變差。此外，磨粒沉淀物變硬時，研磨墊容易引起氣孔堵塞，這是被研磨物表面產生傷痕的原因。

為了消除上述不理想的情況，近年采用在拋光材料漿液中添加抑制拋光材料漿液中的研磨材料粒子沉降的所謂分散劑的方法。利用該方法能夠更長時間地維持通過攪拌等操作而分散的研磨材料粒子的分散狀態。

CN101671525A公開了一種改善稀土拋光粉懸浮性的方法。在稀土拋光粉成品中加入分散助劑使顆粒表面潤濕形成吸附層，阻礙其沉降，其具體方法是:按重量份額稱取800-1200份稀土拋光粉(D50:1.10-1.30μm，D100<5.60μm)，加入1-10份分散助劑，混合均勻即成為懸浮性得到改善的稀土拋光粉。所用的分散助劑可以是亞甲基雙甲基荼磺酸納或乙基茶磺酸納的一種或它們的組合物。

CN1300277C公開了一種研磨材料。以含有氧化鈰的稀土金屬類氧化物為主要組分的玻璃用研磨材料，它能使磨粒的分散性良好、且降低磨粒沉淀物的硬度、并能穩定地實現高的研磨效率。本發明是以含有氧化鈰的稀土金屬類氧化物為主要組分的研磨材料，其中含有固化防止劑和分散劑，所述的固化防止劑用于在該研磨材料磨粒分散到分散介質時使該研磨材料磨粒的沉淀物變軟，所述的分散劑用于使該研磨材料磨粒分散于分散介質中。所述的固化防止劑用于在該研磨材料磨粒分散到分散介質時使該研磨材料磨粒的沉淀物變軟，它使用結晶纖維素、磷酸氫鈣、合成二氧化硅中的任何一種。所述的分散劑用于使該研磨材料磨粒分散于分散介質中，它使用六偏磷酸鈉或焦磷酸鈉。

CN1289626C鈰基拋光料和鈰基拋光漿料。一種以氧化鈰為主要成分的鈰基拋光料，其基本粒徑為40nm至80nm，比表面積為2m²/g至5m²/g，當以10%(質量)的量分散于水中時，該拋光料的沉淀物堆積比重為0.8g/ml至1.0g/ml。

鈰基拋光漿料，其包含分散劑，且分散劑選自陰離子型表面活性劑和非離子型表面活性劑中至少一種。陰離子型表面活性劑選自低分子量或者高分子量的羧酸鹽、磺酸鹽、硫酸鹽和磷酸鹽中至少一種，而非離子型表面活性劑選自聚氧乙烯烷基酚醚、聚氧乙烯烷基醚和聚氧乙烯脂肪酸酯中至少一種。

雖然目前很多的分散劑均可以起到對拋光粉的分散作用。但在實際使用過程中還有很多問題。一方面，雖然使用過程中拋光粉分散在水中有著比較理想的分散效果，但是同時拋光漿料也容易在玻璃表面吸附，導致清洗性變差；另一方面，目前使用的分散劑導致拋光粉在使用過程中更容易產生膠狀物質（gum-like），這些膠狀物質進一步吸附在玻璃表面，使玻璃的清洗問題變的更難。同時，當拋光粉配成漿液后，在間歇性的操作過程中（不可避免的），拋光漿液靜置后在儲料罐的底部產生大量的膠狀物質而變硬，導致拋光粉難以攪拌，這就導致了拋光粉的有效利用率下降，同時變硬膠狀物質也是產生玻璃劃傷的關鍵因素之一。