[發(fā)明專利]步進(jìn)石英舟在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310724124.X | 申請日： | 2013-12-24 |
| 公開（公告）號： | CN104733360A | 公開（公告）日： | 2015-06-24 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 陳瑜;王黎;陳華倫 | 申請（專利權(quán)）人： | 上海華虹宏力半導(dǎo)體制造有限公司 |
| 主分類號： | H01L21/673 | 分類號： | H01L21/673 |
| 代理公司： | 上海浦一知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 31211 | 代理人： | 丁紀(jì)鐵 |
| 地址： | 201203 上海市浦東*** | 國省代碼： | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 步進(jìn) 石英 | ||
【權(quán)利要求書】：
1.步進(jìn)石英舟，其特征在于，該石英舟采用步進(jìn)式結(jié)構(gòu)，石英舟的舟槽間距由爐管內(nèi)里到爐口逐漸增大。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的步進(jìn)石英舟，其特征在于，所述石英舟以第1個舟槽為基準(zhǔn)，前24個舟槽等間距，從第25個舟槽開始，舟槽間距成等差數(shù)列遞增。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的步進(jìn)石英舟，其特征在于，從第25個舟槽開始，舟槽間距以0.03mm成等差數(shù)列遞增。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3任何一項(xiàng)所述的步進(jìn)石英舟，其特征在于，所述石英舟的舟槽與垂直方向成4度角傾斜。
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- 專利分類
H01 基本電氣元件
H01L 半導(dǎo)體器件；其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置；專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理；集成電路器件或其特殊部件的制造
H01L 半導(dǎo)體器件；其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置；專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理；集成電路器件或其特殊部件的制造
