[發明專利]紫激光光聚合平印版及其制備方法

在審

• 申請號: 201310710817.3
• 申請日: 2013-12-19
• 公開（公告）號: CN104723656A
• 公開（公告）日: 2015-06-24
• 發明（設計）人: 李旭東;王泳;孫偉濤;郭偉峰;司朝煜;李樂;李永燕;馬天如
• 申請（專利權）人: 樂凱華光印刷科技有限公司
• 主分類號: B41C1/10
• 分類號: B41C1/10;G03F7/11
• 代理公司: 鄭州中原專利事務所有限公司 41109
• 代理人: 霍彥偉;王曉麗

技術領域

本發明涉及一種在支持體上形成的光聚合型感光涂層的平版印刷版，具體的說是涉及一種可以用激光直接制版的光聚合型平版印刷版，還涉及該平印版的制備方法。

背景技術

近年來隨著計算機和半導體激光技術的發展，感光性高分子材料作為激光成像材料被廣泛地研究和應用。平版印刷技術已從傳統的激光照排膠片拷貝PS版技術全面走向計算機直接制版技術（簡稱CTP技術），CTP版材也逐漸普及。CTP版材種類很多，比較普及的包括銀鹽擴散CTP版材、UV-CTP版、光聚合CTP版材、熱敏CTP版材等。

所謂的光聚合是指在光的作用下，使單體發生聚合的方法。光引發聚合分直接光引發聚合和光敏聚合兩種。前者，在光的作用下，光引發劑在激發態生成活性種子（自由基或陽離子），引發單體聚合；后者光敏劑首先吸收光，分子從基態躍遷至激發態，通過能量轉移或電子轉移使引發劑分解產生自由基，引發感光層中的活性物質（含雙鍵化合物）發生聚合反應。因而可根據光敏劑的吸收光譜，實現所需的感光范圍例如紅外光830nm、綠光532nm、藍光488nm以及蘭紫光405nm。

紫激光CTP版材經405nm紫激光曝光，曝光區域的感光層發生聚合反應而固化，在顯影液中有溶解變為不溶。未曝光區域經顯影加工后被除去，形成印版空白區，曝光區域固化保留下來，形成印版圖文區。其制版過程如下：

曝光→預熱→水洗→顯影→水洗→上膠→印版

曝光階段，感光層中的增感染料吸收激光能量，分子從基態躍遷至激發態，通過能量轉移或電子轉移使引發劑獲得敏化而分解產生自由基，引發涂層中的活性基團發生聚合固化。氧氣對聚合反應具有強烈的阻聚作用，因此為了保持感光層的高聚合效率，版材的表面涂覆了保護層用于隔絕氧氣。

預烘使曝光后的固化涂層（圖文區域），在高溫條件下進一步固化，增加圖文區與非圖文區的溶解反差，提高圖文區的強度增加耐印。預烘溫度的高低對制版比較重要，預烘溫度低，圖文部分不能充分固化，導致印刷時版材耐印率低；預烘溫度過高，易導致非圖文區域涂層反應固化而出現糊版現象，印刷上臟。特別是在制版過程中，有些沖版機預熱段不穩定，溫度漂移較大，如果版材預熱寬容度窄，就易出現糊版現象。

預水洗目的是，在顯影前去除紫激光CTP版表面的水溶性隔氧層。

顯影是去除非固化的區域，產生圖像。

水洗是為了清洗從顯影槽中出來的印版。

上膠主要是保持版基的親水性，避免版基氧化上臟；中和版面的堿性殘留物，避免其對圖文區域的持續作用，造成耐印率的變化。

另外在版材自然存放過程中，由于涂層中各物質分子的運動和相互作用，使版材的感光速度上升或下降，導致版材在使用過程中不是一種穩定的狀態。

發明內容

本發明的目的在于提供一種紫激光光聚合平印版及其制備方法，解決制版過程中因版材預熱寬容度窄導致的糊版問題,提供一種通過熱處理提高版材的感度和儲存穩定性的方法。

本發明的目的通過以下措施來實現：

一種紫激光光聚合平印版，所述光聚合型平版印刷版中包括有支持體，在支持體之上為光聚合型感光層，在光聚合型感光層之上附有水性保護層，光聚合型感光層包含成膜樹脂、不飽和單體和預聚體、引發體系和其他助劑，引發體系占光聚合型感光層總重量百分比為10－30%，所述引發體系包括引發劑、光敏劑和助引發劑，其中引發劑用量占引發體系重量百分比為20-40%，光敏劑用量占引發體系重量百分比為40-60%，助引發劑用量占引發體系重量百分比為5-20%。

上述紫激光光聚合平印版，所述引發劑為六芳基雙咪唑類。

上述紫激光光聚合平印版，所述的光聚合型感光層所包含的光敏劑為在330nm-450nm有最大吸收峰的增感物質。

上述紫激光光聚合平印版，所述助引發劑為含巰基的化合物。

上述紫激光光聚合平印版，所述含巰基的化合物是巰基苯并噻唑、巰基苯并惡唑或巰基三氮唑中的任一種。

上述紫激光光聚合平印版，在支持體之上的光聚合型感光層，以其干燥后的覆量重量計，為0.1g／m²－10g／m²。

上述紫激光光聚合平印版，在所述水性保護層中以干燥后的覆量重量計，通常為0.5―10g／m²，優選為1.0―4.0g／m²。