[發明專利]脈沖整形裝置和脈沖整形方法有效
| 申請號: | 201310700813.7 | 申請日: | 2013-12-18 |
| 公開(公告)號: | CN103904545B | 公開(公告)日: | 2017-11-17 |
| 發明(設計)人: | 田中健二;岡美智雄 | 申請(專利權)人: | 索尼公司 |
| 主分類號: | H01S3/10 | 分類號: | H01S3/10 |
| 代理公司: | 北京康信知識產權代理有限責任公司11240 | 代理人: | 余剛,吳孟秋 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 脈沖 整形 裝置 方法 | ||
1.一種脈沖整形裝置,包括:
脈沖生成器,被配置為通過使用用于發射預定波長的光的半導體激光器產生脈沖光;
光學構件,被設置在所述脈沖生成器的后級中并被配置為使得在X軸的正方向上傳播的所產生的脈沖光在所述光學構件上入射,并且所述光學構件被配置為壓縮所述脈沖光的脈沖時間寬度;以及
反射鏡,設置在所述光學構件的后級上,并被配置為反射從所述光學構件發射的脈沖光使得從所述反射鏡反射的光僅沿預定光路長度傳播通過所述光學構件的內部;
其中,所述脈沖光具有第一頻率分散狀態,且
其中,所述光學構件將第二頻率分散狀態賦給所述脈沖光,所述第二頻率分散狀態是與所述第一頻率分散狀態相反的頻率分散狀態。
2.根據權利要求1所述的脈沖整形裝置,
其中,所述脈沖光具有從350nm至500nm的范圍的波長,
其中,所述第一頻率分散狀態為負分散,以及
其中,所述光學構件通過賦予作為所述第二頻率分散狀態的正分散來壓縮所述脈沖光。
3.根據權利要求2所述的脈沖整形裝置,其中,所述光學構件是由石英玻璃制成的光學構件。
4.根據權利要求3所述的脈沖整形裝置,其中,所述光學構件是由石英玻璃制成的光學元件。
5.根據權利要求3所述的脈沖整形裝置,其中,所述光學構件是單模光纖。
6.根據權利要求1所述的脈沖整形裝置,其中,所述脈沖光的所述脈沖時間寬度被壓縮的程度根據所述脈沖光穿過所述光學構件的光路長度而變化。
7.根據權利要求1所述的脈沖整形裝置,其中,所述脈沖生成器包括主振蕩功率放大器(MOPA)系統,所述主振蕩功率放大器系統用于通過使用允許所述半導體激光器以外腔形式被操作的鎖模激光二極管(MLLD)使來自所述鎖模激光二極管的輸出由半導體光放大器(SOA)放大。
8.根據權利要求1所述的脈沖整形裝置,所述脈沖生成器包括鎖模振蕩器、透鏡、隔離器、棱鏡對、λ/2板和半導體光放大器。
9.一種脈沖整形裝置,包括:
脈沖生成器,被配置為通過使用用于發射波長范圍從350nm至500nm的光的半導體激光器產生脈沖光;
石英玻璃塊,被設置在所述脈沖生成器的后級中,并被配置為使得在X軸的正方向上傳播的所產生的脈沖光在所述石英玻璃塊上入射,并且所述石英玻璃塊被配置為壓縮所述脈沖光的脈沖時間寬度;以及
反射鏡,被設置在所述石英玻璃塊的后級上并被配置反射從所述石英玻璃塊發射的脈沖光使得從所述反射鏡反射的光僅沿預定光路長度傳播通過所述石英玻璃塊的內部;
其中,所述脈沖光具有第一頻率分散狀態,且
其中,所述石英玻璃塊將第二頻率分散狀態賦給所述脈沖光,所述第二頻率分散狀態是與所述第一頻率分散狀態相反的頻率分散狀態。
10.一種脈沖整形方法,包括:
通過使用用于發射預定波長的光的半導體激光器產生脈沖光;在X軸的正方向上傳播的所產生的脈沖光在光學構件上入射,通過使所述脈沖光穿過光學構件的內部來壓縮所述脈沖光的脈沖時間寬度;以及
通過設置在所述光學構件的后級上的反射鏡反射從所述光學構件發射的脈沖光使得從所述反射鏡反射的光僅沿預定光路長度傳播通過所述光學構件的內部;
其中,所述脈沖光具有第一頻率分散狀態,且
其中,所述光學構件將第二頻率分散狀態賦給所述脈沖光,所述第二頻率分散狀態是與所述第一頻率分散狀態相反的頻率分散狀態。
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