[發明專利]一種彩膜基板及其制造方法

在審

• 申請號: 201310700532.1
• 申請日: 2013-12-18
• 公開（公告）號: CN103676339A
• 公開（公告）日: 2014-03-26
• 發明（設計）人: 陳俊生
• 申請（專利權）人: 合肥京東方光電科技有限公司;京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: G02F1/1339
• 分類號: G02F1/1339;G02F1/1335;G02F1/1333
• 代理公司: 北京路浩知識產權代理有限公司 11002
• 代理人: 李迪

1.一種彩膜基板，包括：

多個凸起物，形成在所述彩膜基板邊緣將要涂覆封框膠的區域內的所述彩膜基板上；

反射層，覆蓋所述多個凸起物，且位于所述彩膜基板邊緣將要涂覆封框膠的區域內。

2.根據權利要求1所述的彩膜基板，其中，在所述多個凸起物與所述彩膜基板之間還包括黑矩陣層。

3.根據權利要求1所述的彩膜基板，其中，所述凸起物的材料為樹脂材料、氧化硅或氮化硅中的至少一種。

4.根據權利要求2所述的彩膜基板，其中，所述凸起物與所述黑矩陣層是一體形成的。

5.根據權利要求1所述的彩膜基板，其中，所述凸起物為半球形。

6.根據權利要求1所述的彩膜基板，其中，所述凸起物的直徑為3至15μm，所述凸起物之間的間隔為3至15μm。

7.根據權利要求1至6中任一項所述的彩膜基板，其中，所述凸起物的位置與所述彩膜基板面對的陣列基板上的金屬層之間的間隙相對。

8.一種制造彩膜基板的方法，包括：

在基板上依次形成黑矩陣層和光刻膠層；

采用半色調掩膜板或灰色調掩膜板來對所述光刻膠層進行曝光；

對曝光后的所述光刻膠層進行顯影；

在顯影工藝之后對所述黑矩陣層進行蝕刻；

在蝕刻后的黑矩陣層圖形上形成反射層。

9.根據權利要求8所述的方法，其中，所述蝕刻后的黑矩陣層圖形是多個半球形凸起物。

10.根據權利要求8所述的方法，其中，所述蝕刻后的黑矩陣層圖形和所述反射層位于所述彩膜基板邊緣將要涂覆封框膠的區域內。