[發明專利]玻璃制品及其制備方法

有效

• 申請號: 201310681148.1
• 申請日: 2013-12-13
• 公開（公告）號: CN103738007A
• 公開（公告）日: 2014-04-23
• 發明（設計）人: 張迅;王海濤;易偉華
• 申請（專利權）人: 江西沃格光電股份有限公司
• 主分類號: B32B17/00
• 分類號: B32B17/00;B32B9/04;C23C14/34
• 代理公司: 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224
• 代理人: 吳平

技術領域

本發明涉及玻璃技術領域，特別是涉及一種玻璃制品及其制備方法。

背景技術

玻璃制品廣泛應用于各種場合，如電子產品的玻璃面板、玻璃櫥窗、玻璃茶幾等。由于玻璃制品的硬度不夠、易被劃傷，導致應用玻璃的制品的物品的壽命較短，或者在長時間使用后，表面被劃傷而影響美觀。

發明內容

基于此，有必要針對提供一種硬度較高、不易被劃傷及透光率高的玻璃制品。

進一步，提供一種玻璃制品的制備方法。

一種玻璃制品，包括玻璃基板和層疊于所述玻璃基板上的增硬層，所述增硬層的材料包括氧化鋁和三氧化二釹。

在其中一個實施例中，所述氧化鋁和三氧化二釹的質量比為95:5～99:1。

在其中一個實施例中，所述增硬層的厚度為～。

在其中一個實施例中，所述玻璃基板的厚度為0.3毫米～20毫米。

一種玻璃制品的制備方法，包括如下步驟：

提供玻璃基板；及

采用磁控濺射在所述玻璃基板上制備增硬層，得到所述玻璃制品。

在其中一個實施例中，所述采用磁控濺射在所述玻璃基板上制備增硬層的步驟之前，還包括對所述玻璃基板進行清洗的步驟，所述清洗的步驟為：將所述玻璃基板依次用純水和堿液清洗后，再依次進行二流體噴淋、純水噴淋和高壓噴淋。

在其中一個實施例中，所述采用磁控濺射在所述玻璃基板上制備增硬層的步驟中，所述磁控濺射的真空度為2.5×10^-1Pa～3.50×10^-1Pa。

在其中一個實施例中，所述采用磁控濺射在所述玻璃基板上制備增硬層的步驟中，所述玻璃基板的溫度為120℃～200℃。

在其中一個實施例中，所述采用磁控濺射在所述玻璃基板上制備增硬層的步驟采用釹鋁合金靶材，并通入氧氣和氬氣。

在其中一個實施例中，所述氧氣的流量為200sccm～220sccm，所述氧氣和氬氣的總氣壓為0.3Pa。

上述玻璃制品包括玻璃基板和層疊于玻璃基板上的增硬層，增硬層的材料包括氧化鋁和三氧化二釹。該玻璃制品具有較高的硬度、不易被劃傷且透光率高的特點，不僅可以應用于電子產品的玻璃面板、玻璃櫥窗、玻璃茶幾等，提高使用壽命和保持美觀，并且還可以作為玻璃切割刀代替金剛石玻璃切割刀切割玻璃，應用較為廣泛。

附圖說明

圖1為一實施方式玻璃制品的結構示意圖；

圖2為一實施方式的玻璃制品的制備方法的流程圖；

圖3為實施例1的玻璃制品的增硬層的SEM圖。

具體實施方式

為使本發明的上述目的、特征和優點能夠更加明顯易懂，下面結合附圖對本發明的具體實施方式做詳細的說明。在下面的描述中闡述了很多具體細節以便于充分理解本發明。但是本發明能夠以很多不同于在此描述的其它方式來實施，本領域技術人員可以在不違背本發明內涵的情況下做類似改進，因此本發明不受下面公開的具體實施的限制。

請參閱圖1，一實施方式的玻璃制品100，包括玻璃基板20和層疊于玻璃基板20上的增硬層40。

玻璃基板20優選為耐熱性能好的無機玻璃基板。

玻璃基板20的厚度優選為0.3毫米～20毫米。

玻璃基板20的厚度更優選為0.5毫米～10毫米，以使玻璃基板20具有較高的強度，且使玻璃制品100作為玻璃切割刀使用時能夠較為方便地切割玻璃。

增硬層40的材料包括氧化鋁（Al₂O₃）和三氧化二釹（Nd₂O₃）。增硬層40為氧化鋁（Al₂O₃）和三氧化二釹（Nd₂O₃）形成的膜層。

增硬層40具有較高的硬度和較高的化學穩定性。并且，增硬層40的透光率高達95.0%。

增硬層40的厚度太小，工藝難以控制，且在玻璃基板20上的附著力太差；增硬層40的厚度太大，制備成本高。因此，優選地，增硬層40的厚度為～。

釹是稀土金屬，價格較為昂貴。在滿足性能要求的前提下，釹的含量越低，該玻璃制品100的價格越低。優選地，氧化鋁和三氧化二釹的質量比為95:5～99:1，以使增硬層40的硬度較大、透光性好、化學穩定性好，且能夠節約成本。更優選地，氧化鋁和三氧化二釹的質量比為98:2。