[發明專利]用于液晶顯示裝置中的黑矩陣的感光組合物、具有該組合物的黑矩陣以及使用該組合物形成黑矩陣的方法有效
| 申請號: | 201310670512.4 | 申請日: | 2013-12-10 |
| 公開(公告)號: | CN103869622B | 公開(公告)日: | 2019-06-11 |
| 發明(設計)人: | 羅允晟 | 申請(專利權)人: | 樂金顯示有限公司 |
| 主分類號: | G03F7/033 | 分類號: | G03F7/033;G03F7/032;G03F7/004 |
| 代理公司: | 北京律誠同業知識產權代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金國 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 韓國;KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 液晶 顯示裝置 中的 矩陣 感光 組合 具有 以及 使用 形成 方法 | ||
1.一種形成具有小于6微米的寬度的細小圖案的黑矩陣的方法,包括:
通過在基板上施用感光組合物形成膜,其中,所述感光組合物包括基于100重量份的感光組合物,5-20wt%的顏料;1-25wt%的粘合劑樹脂;1-25wt%光聚合性單體;1-25wt%的光聚合引發劑;65-85wt%的溶劑;和1-10wt%的光堿發生劑;
在膜上設置光掩模并使光通過光掩模照射所述膜以形成光聚合物;
使用顯影液來顯影包括光聚合物的膜,形成圖案;和
烘烤所述圖案;
所述光堿發生劑具有下述化學式的結構:
其中R1、R2和R3各自是環上具有雜原子的C3-C8脂族環基;以及環上具有雜原子的芳基中一種,其中所述芳基是未取代的或被C1-C10烷基或C1-C10烷氧基取代的,并且其中雜原子為氧原子、氮原子和/或硫原子。
2.根據權利要求1所述的方法,其中所述芳基是苯、萘或蒽。
3.根據權利要求1所述的方法,其中所述光聚合引發劑選自苯乙酮化合物、二苯甲酮化合物、噻噸酮化合物、苯偶姻化合物、三嗪化合物、肟化合物和它們的組合。
4.根據權利要求1所述的方法,其中所述顏料包括炭黑。
5.根據權利要求1所述的方法,其中所述粘合劑樹脂選自Cardo型粘合劑樹脂、丙烯酸類粘合劑樹脂、環氧粘合劑樹脂以及它們的組合。
6.根據權利要求1所述的方法,其中所述光聚合性單體選自含有酸官能團的丙烯酸類單體、含有氟官能團的丙烯酸類單體、含有環氧基的單體、含有乙烯-不飽和雙鍵的多官能性單體以及它們的組合。
7.根據權利要求1所述的方法,其中所述溶劑選自丙二醇甲醚乙酸酯(PGMEA)、丙二醇乙醚乙酸酯(PGEEA)、丙二醇甲基醚(PGME)、丙二醇丙醚(PGPE)、乙二醇單甲醚乙酸酯、乙二醇單乙醚乙酸酯、乙二醇單丁基醚乙酸酯、乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、二乙二醇甲基乙酸酯、二丙二醇甲基醚、甲基乙氧基丙酸乙酯、乙氧基丙酸乙酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙酸環己酮、丙酮、甲基異丁基酮、二甲基甲酰胺、N,N'-二甲基乙酰胺、N-甲基吡咯烷酮、甲苯以及它們的組合。
8.根據權利要求1所述方法,其中,所述光具有在300-400nm范圍內的波長。
9.根據權利要求1所述方法,其特征在于,一部分未暴露于光的膜在膜顯影后被去除。
10.根據權利要求1所述方法,其中,所述顯影液包括氫氧化鉀。
11.根據權利要求1所述方法,還包括在膜上設置光掩模之前預烘烤所述膜。
12.一種制造濾色器基板的方法,包括:
通過在基板上施用用于形成具有小于6微米的寬度的細小圖案的黑矩陣的感光組合物形成膜,其中,所述感光組合物包括基于100重量份的感光組合物,5-20wt%的顏料;1-25wt%的粘合劑樹脂;1-25wt%光聚合性單體;1-25wt%的光聚合引發劑;65-85wt%的溶劑;和1-10wt%的光堿發生劑;
在膜上設置光掩模并使光通過光掩模照射所述膜以形成光聚合物;
使用顯影液來顯影包括光聚合物的膜,形成圖案;
烘烤所述圖案,以及
在被黑矩陣暴露出的基板上形成濾色器層;
所述光堿發生劑具有下述化學式的結構:
其中R1、R2和R3各自是環上具有雜原子的C3-C8脂族環基;以及環上具有雜原子的芳基中一種,其中所述芳基是未取代的或被C1-C10烷基或C1-C10烷氧基取代的,并且其中雜原子為氧原子、氮原子和/或硫原子。
13.根據權利要求12所述的方法,其中所述芳基是苯、萘或蒽。
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