[發明專利]硅片表面機械拋光的方法在審
| 申請號： | 201310648860.1 | 申請日： | 2013-12-04 |
| 公開（公告）號： | CN104690607A | 公開（公告）日： | 2015-06-10 |
| 發明（設計）人： | 劉官柱 | 申請（專利權）人： | 大連飛馬文儀家俱有限公司 |
| 主分類號： | B24B1/00 | 分類號： | B24B1/00 |
| 代理公司： | 大連東方專利代理有限責任公司 21212 | 代理人： | 賈漢生 |
| 地址： | 116000 遼寧省大*** | 國省代碼： | 遼寧;21 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 硅片 表面 機械拋光 方法 | ||
1.硅片表面機械拋光的方法，其特征在于：所述的方法步驟如下：
（1）將硅片試樣先用酸性清洗液進行清洗，然后堿性清洗液進行清洗，然后再用酸性清洗液進行清洗，晾干；
（2）將步驟（1）所獲得的硅片進行電火花削磨加工，時間為30-60分鐘，然后將所獲得的硅片表面用超聲波研磨機進行拋光處理，超聲波研磨機的轉速為35000-40000轉/分鐘；
（3）將步驟（2）所獲得的硅片用型號為400目，600目，800目，1000目，1200目的砂紙中的一種進行拋光處理，時間為20-40分鐘；
（4）將步驟（3）所獲得硅片先用拋光布輪進行拋光處理，然后用金剛石研磨膏進
行拋光處理，步驟（4）的時間為30分鐘。
2.根據權利要求1所述的硅片表面機械拋光的方法，其特征在于：所述的步驟（1）中的酸性清洗液為鹽酸和過氧化氫按質量比5:1或4:1配比而成。
3.根據權利要求1所述的硅片表面機械拋光的方法，其特征在于：所述的步驟（1）中的堿性清洗液為水、過氧化氫、氫氧化氨的質量比以5:2:1或7：2：1配比而成。
4.根據權利要求1所述的硅片表面機械拋光的方法，其特征在于：所述的步驟（2）中的超聲波研磨機的轉速為40000轉/分鐘。
5.根據權利要求1～4任意一項權利要求所述的硅片表面機械拋光的方法，其特征在于：所述的步驟（3）中的砂紙的型號為800目，1000目，1200目中的一種。
6.根據權利要求5所述的硅片表面機械拋光的方法，其特征在于：所述的步驟（3）中的砂紙的型號為1200目。
7.根據權利要求1所述的硅片表面機械拋光的方法，其特征在于：所述的步驟（4）中的拋光布輪為3英寸，50層的拋光布輪。
8.根據權利要求1～7任意一項權利要求所述的硅片表面機械拋光的方法，其特征在于：所述的步驟（4）中的金剛石研磨膏為油溶性金剛石研磨膏。
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