[發(fā)明專利]一種投影物鏡焦面形狀測量標(biāo)記裝置及應(yīng)用有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310648361.2 | 申請日： | 2013-12-04 |
| 公開（公告）號： | CN103616166A | 公開（公告）日： | 2014-03-05 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 李金龍;胡松;趙立新;李蘭蘭;邸成良 | 申請（專利權(quán)）人： | 中國科學(xué)院光電技術(shù)研究所 |
| 主分類號： | G01M11/02 | 分類號： | G01M11/02;G03F7/207 |
| 代理公司： | 北京科迪生專利代理有限責(zé)任公司 11251 | 代理人： | 孟卜娟 |
| 地址： | 610209 *** | 國省代碼： | 四川;51 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 投影 物鏡 形狀 測量 標(biāo)記 裝置 應(yīng)用 | ||
1.一種投影物鏡焦面形狀測量標(biāo)記裝置，其特征在于：所述投影物鏡焦面形狀測量標(biāo)記裝置依次含有鍍鉻區(qū)域、透光區(qū)域、相位凹槽區(qū)域，其中：
鍍鉻區(qū)域、透光區(qū)域、相位凹槽區(qū)域的寬度比為2:1:1；相位凹槽區(qū)域具有90°的位相深度。
2.一種投影物鏡焦面形狀測量標(biāo)記裝置，其特征在于：所述投影物鏡焦面形狀測量標(biāo)記裝置依次含有鍍鉻區(qū)域、相位凹槽區(qū)域、透光區(qū)域、，其中：
鍍鉻區(qū)域、相位凹槽區(qū)域、透光區(qū)域的寬度比為2:1:1；相位凹槽區(qū)域具有90°的位相深度；能夠提高投影物鏡焦面形狀測量分辨力。
3.制作一帶有投影物鏡焦面形狀測量分辨力測量標(biāo)記裝置的測試掩模，其特征在于：將權(quán)利要求1或2所述的投影物鏡焦面形狀測量分辨力的測量標(biāo)記裝置，均布在測試掩模整個曝光視場范圍內(nèi)，測試掩模曝光后，通過測量硅片表面干涉條紋偏移量，并結(jié)合硅片離焦量與干涉條紋偏移量間對應(yīng)關(guān)系即獲得其投影物鏡的真實焦面形狀。
4.一種光刻機超高精度的焦面控制方法，其特征在于：根據(jù)權(quán)利要求3所述的投影物鏡的真實焦面形狀，在光刻機的焦面的形狀控制過程中，硅片曝光場進行平面擬合之前將硅片表面高度數(shù)據(jù)對應(yīng)的減去投影物鏡真實焦面數(shù)據(jù)，再將所得結(jié)果進行平面擬合進而完成光刻機超高精度的焦面控制。
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