[發明專利]設有可提高對稱性的導氣裝置的泵以及等離子處理裝置

有效

• 申請號: 201310640011.1
• 申請日: 2013-12-04
• 公開（公告）號: CN104701121B
• 公開（公告）日: 2017-01-04
• 發明（設計）人: 陳妙娟;吳狄;何乃明;倪圖強
• 申請（專利權）人: 中微半導體設備（上海）有限公司
• 主分類號: H01J37/02
• 分類號: H01J37/02;H01J37/32
• 代理公司: 上海信好專利代理事務所(普通合伙)31249
• 代理人: 張靜潔

1.一種用于等離子處理裝置的導氣裝置，等離子處理裝置包含反應腔、設置于反應腔的底部的基座、設置于反應腔下方的泵，所述泵的進氣口與反應腔氣路連通；

其特征在于，所述導氣裝置氣路連通于所述泵與反應腔之間，反應腔的電極區域通過該導氣裝置進行排氣或抽真空工藝；

所述導氣裝置包含：

外殼（21），其設有上下連通的氣道，該氣道的上端氣路連通反應腔，下端氣路連通至泵；

中心管道（22），其設置于所述外殼（21）內的氣道中，該中心管道（22）上端氣路連通所述反應腔，下端封閉；該中心管道內形成中心氣道（221），中心管道（22）與外殼（21）之間形成外層氣道；

若干分隔結構（23），其由所述中心管道（22）側壁連接至所述外殼（21）的內側壁，將所述外層氣道分隔成若干個相互連通的外層子氣道（211），外層子氣道氣路連通泵。

2.如權利要求1所述的導氣裝置，其特征在于，所述的分隔結構（23）設置為中空或實心的。

3.如權利要求2所述的導氣裝置，其特征在于，所述的分隔結構（23）中設有輔助氣道（231），該輔助氣道（231）由所述中心管道（22）內部延伸至所述外殼（21）的外部，所述中心氣道（221）通過輔助氣道（231）與外界連通。

4.如權利要求3所述的導氣裝置，其特征在于，所述輔助氣道（231）中設有氣路開關。

5.如權利要求1至4中任意一項權利要求所述的導氣裝置，其特征在于，各個所述分隔結構（23）的軸向寬度不相等。

6.如權利要求5所述的導氣裝置，其特征在于，該導氣裝置中設有四個分隔結構（23），四個分隔結構（23）相互間的間隔距離相等；四個分隔結構（23）將所述外層氣道分隔為四個外層子氣道（211）。

7.如權利要求6所述的導氣裝置，其特征在于，四個所述分隔結構（23）兩兩相對設置，其中相對設置的一對所述分隔結構（23）的軸向寬度相等。

8.一種設有如權利要求1至7中任意一項權利要求所述導氣裝置的對稱泵組件，其設置于反應腔的下方、位于靜電卡盤與電極區域的下方、并與反應腔氣路連通；

其特征在于，該對稱泵組件包含：泵、氣路連通在所述泵與反應腔之間的下游控制閥、氣路連通在所述下游控制閥與反應腔之間的導氣裝置；

所述下游控制閥的頂部設有用于控制閥開閉的橫梁；

所述導氣裝置包含有分隔結構（23），該分隔結構（23）正好遮蓋在所述下游控制閥的橫梁上方，從而該橫梁不會穿過各個分隔結構（23）所分隔成的各個外層子氣道（211），使各個外層子氣道（211）從晶圓級來看是互相相同和對稱的。

9.如權利要求8所述的對稱泵組件，其特征在于，所述導氣裝置包含有四個分隔結構（23），四個分隔結構（23）兩兩相對設置，其中相對設置的分隔結構（23）為一組，兩組分隔結構（23）的中軸線相互垂直；該兩組分隔結構（23）中的一組與所述下游控制閥的橫梁平行設置，且正好設置于該橫梁的上方。

10.一種設有如權利要求8或9所述對稱泵組件的等離子處理裝置，該裝置包含：反應腔、平行設置于反應腔頂部和底部的上電極和下電極，設置于反應腔內底部的靜電卡盤；其特征在于，所述對稱泵組件設置于所述等離子處理裝置的反應腔的下方，并與所述反應腔氣路連通，用于對反應腔進行抽真空與水、氣排放。