[發明專利]圖像形成設備和去除構件有效
| 申請號: | 201310629685.1 | 申請日: | 2013-11-29 |
| 公開(公告)號: | CN104062875B | 公開(公告)日: | 2018-11-06 |
| 發明(設計)人: | 松本泰岳;重崎聰 | 申請(專利權)人: | 富士施樂株式會社 |
| 主分類號: | G03G21/00 | 分類號: | G03G21/00 |
| 代理公司: | 北京三友知識產權代理有限公司 11127 | 代理人: | 呂俊剛;劉久亮 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 轉印構件 去除構件 調色劑 圖像形成設備 調色劑圖像 外部添加劑 被轉印體 純水接觸角 載體承載 圓形度 轉印 附著 去除 承載 | ||
圖像形成設備和去除構件。一種圖像形成設備包括:載體,該載體承載由調色劑形成的調色劑圖像,所述調色劑包括調色劑本體和外部添加劑,該外部添加劑的圓形度為大約0.5至大約0.9;轉印構件,該轉印構件將被轉印體保持在該轉印構件與所述載體之間,該轉印構件將所述調色劑圖像轉印到所述被轉印體上;以及去除構件,該去除構件包括接觸部,該接觸部接觸所述轉印構件,該去除構件去除從所述載體所承載的所述調色劑圖像附著到所述轉印構件的調色劑,所述接觸部由滿足下式(1)的彈性材料制成:A≥?2.5×B+102(1)其中A表示在23℃和55%RH下的純水接觸角(°),B表示在23℃下的100%模量(MPa)。
技術領域
本發明涉及圖像形成設備和去除構件(removing member)。
背景技術
作為現有技術的示例,存在一種包括清潔構件的清潔裝置,所述清潔構件與待清潔構件的表面接觸,從而刮去待清潔構件的表面上的殘留物。清潔構件與待清潔構件抵接的部分由滿足以下關系的彈性橡膠體制成:A≥-2.5×B+102(其中A表示在23℃和55%RH下的純水接觸角(°),B表示在23℃下的100%模量(Mpa))(參見日本特開2006-301564號公報)。
作為現有技術的另一示例,存在樹脂粒子,該樹脂粒子包括樹脂粒子本體以及附著到樹脂粒子本體的表面的二氧化硅粒子。二氧化硅粒子包括體積平均粒徑不小于80nm且不大于300nm、粒度分布指數不小于1.10且不大于1.40、平均圓形度不小于0.70且不大于0.92、并且圓形度分布指數不小于1.05且不大于1.50的一次粒子。圓形度不小于0.95的一次粒子的比例不大于10個%(參見日本特開2012-149190號公報)。
發明內容
因此,本發明的目的在于提供一種圖像形成設備和去除構件,其減少從載體附著到轉印構件的調色劑的清潔故障的發生。
根據本發明的第一方面,提供了一種圖像形成設備,該圖像形成設備包括:載體,該載體承載由調色劑形成的調色劑圖像,所述調色劑包括調色劑本體和外部添加劑,該外部添加劑的圓形度為大約0.5至大約0.9;轉印構件,所述轉印構件將被轉印體保持在所述轉印構件與所述載體之間,所述轉印構件將所述調色劑圖像轉印到所述被轉印體上;以及去除構件,該去除構件包括接觸部,該接觸部接觸所述轉印構件,所述去除構件去除從所述載體所承載的所述調色劑圖像附著到所述轉印構件的調色劑,所述接觸部由滿足下式(1)的彈性材料制成:
A≥-2.5×B+102 (1)
其中A表示在23℃和55%RH下的純水接觸角(°),B表示在23℃下的100%模量(MPa)。
根據本發明的第二方面,在根據第一方面的圖像形成設備中,所述載體所承載的所述調色劑圖像包括被轉印到所述被轉印體上的第一調色劑圖像以及沒有被轉印到所述被轉印體上的第二調色劑圖像。
根據本發明的第三方面,在根據第一方面或第二方面的圖像形成設備中,所述接觸部在23℃和55%RH下的純水接觸角(°)為大約82°至101°,所述接觸部在23℃下的100%模量為大約4MPa至大約11Mpa。
根據本發明的第四方面,在根據第一方面或第二方面的圖像形成設備中,所述調色劑的所述調色劑本體和所述外部添加劑具有相同的電荷極性。
根據本發明的第五方面,在根據第一方面或第二方面的圖像形成設備中,所述轉印構件具有涂覆有氟樹脂的表面,并且所述去除構件的所述接觸部接觸所述表面。
根據本發明的第六方面,提供了一種用于使用載體的電子照相術的去除構件,所述載體承載由調色劑形成的調色劑圖像,所述調色劑包括調色劑本體和外部添加劑,所述外部添加劑的圓形度為大約0.5至大約0.9,所述去除構件包括接觸轉印構件的接觸部。所述去除構件去除從所述載體所承載的所述調色劑圖像附著到所述轉印構件的調色劑,并且所述接觸部由滿足下式(1)的彈性材料制成:
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