[發明專利]石英晶體頻率片清洗工藝在審
| 申請號： | 201310625361.0 | 申請日： | 2013-11-29 |
| 公開（公告）號： | CN103701423A | 公開（公告）日： | 2014-04-02 |
| 發明（設計）人： | 謝小東 | 申請（專利權）人： | 銅陵日科電子有限責任公司 |
| 主分類號： | H03H3/02 | 分類號： | H03H3/02 |
| 代理公司： | 安徽信拓律師事務所 34117 | 代理人： | 鞠翔 |
| 地址： | 244000 *** | 國省代碼： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 石英 晶體 頻率 清洗 工藝 | ||
【權利要求書】：
1.一種石英晶體頻率片清洗工藝，其特征在于：包括以下工藝步驟，
1）將石英晶體頻率片放入一道清洗機中，在清洗水中加入中性的表面活性劑，清洗10-20分鐘；
2）撈出，瀝干水，放入二道清洗機，在二道清洗機中加入濃度為18%、溫度為60-80℃的堿液，清洗10-20分鐘；
3）撈出，瀝干水，放入三道清洗機，在三道清洗機中加入弱酸性清洗溶液，清洗10-20分鐘；
4）撈出，瀝干水，放入四道清洗機，用純水噴淋的方式清洗1-10分鐘，撈出，瀝干水即可。
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