[發(fā)明專利]一種防止金屬觸點(diǎn)發(fā)生拉弧的裝置無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310615611.2 | 申請日: | 2013-11-27 |
| 公開(公告)號: | CN103606476A | 公開(公告)日: | 2014-02-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 葉浩;王學(xué)鋒;賴念華;徐陽輝 | 申請(專利權(quán))人: | 武漢航空儀表有限責(zé)任公司 |
| 主分類號: | H01H9/30 | 分類號: | H01H9/30 |
| 代理公司: | 中國航空專利中心 11008 | 代理人: | 杜永保 |
| 地址: | 430074 湖*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 防止 金屬 觸點(diǎn) 發(fā)生 裝置 | ||
1.一種防止金屬觸點(diǎn)發(fā)生拉弧的裝置,其特征在于,包括由上銅箔和下銅箔組成的銅箔[1]、彈簧[3]、薄膜[5],上銅箔和下銅箔夾住薄膜[5],上銅箔和下銅箔之間進(jìn)行焊接,焊接后與薄膜[5]進(jìn)行緊密粘接,以保證薄膜[5]內(nèi)部的氣密性;彈簧[3]置于薄膜[5]內(nèi)的下銅箔兩側(cè)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種防止金屬觸點(diǎn)發(fā)生拉弧的裝置,其特征在于,薄膜[5]內(nèi)部充有氮?dú)狻?/p>
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種防止金屬觸點(diǎn)發(fā)生拉弧的裝置,其特征在于,薄膜[5]由厚度為δ0.1的聚四氟乙烯薄膜制成。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種防止金屬觸點(diǎn)發(fā)生拉弧的裝置,其特征在于,彈簧[3]由碳素彈簧鋼絲繞制而成。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于武漢航空儀表有限責(zé)任公司,未經(jīng)武漢航空儀表有限責(zé)任公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
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