[發明專利]物體在力熱磁電多場作用下折射率變化測量裝置及方法有效
| 申請號: | 201310610863.6 | 申請日: | 2013-11-26 |
| 公開(公告)號: | CN103698299B | 公開(公告)日: | 2016-11-30 |
| 發明(設計)人: | 馮雪;張長興;屈哲 | 申請(專利權)人: | 清華大學 |
| 主分類號: | G01N21/41 | 分類號: | G01N21/41;G01M11/02 |
| 代理公司: | 北京鴻元知識產權代理有限公司 11327 | 代理人: | 邸更巖 |
| 地址: | 100084 北京市海淀區1*** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 物體 磁電 作用 折射率 變化 測量 裝置 方法 | ||
技術領域
本發明涉及一種利用數字相關圖像技術測量物體在力熱磁電多場作用下折射率的變化,屬于材料科學、光學實驗技術領域。?
背景技術
隨著光學材料研究的發展,用光學材料制備出的光學器件在精密制造、探測定位、信息傳感等方面有著廣闊的應用前景,而這些光學器件在工作環境中受熱、受力和外加電磁場作用,其折射率發生變化進而對其性能產生影響。?
通常測量光學材料折射率的光學方法有臨界角法、最小偏向角法和V棱鏡法,這些光學方法一般都是點測量,無法獲取光學材料折射率的全場分布。現今研究環境因素如加熱、受力、外加電磁場等因素對光學材料折射率造成的影響,采用的測量方法基本上是單點測量,沒有考慮實際情況中加熱、受力等環境影響因素的非均勻性,所以亟待一種多物理場作用下折射率變化的全場非均勻分布測量方法。?
發明內容
本發明提供一種物體在力熱磁電多場作用下折射率變化測量裝置及方法,該裝置及方法可以對物體隨環境溫度變化、受力、外加電磁場作用下的全場折射率變化進行測量,同時可以得出物體折射率隨這些環境因素變化的關系式。?
本發明的技術方案如下:?
一種物體在力熱磁電多場作用下折射率變化測量裝置,其特征在于:該裝置包括抽真空試驗箱、力熱磁電加載平臺、背景散斑、照明光源、CCD相機及含有計算程序的計算機;被測物體置于力熱磁電加載平臺上,所述的力熱磁電加載平臺、背景散斑、照明光源置于抽真空試驗箱內,抽真空試驗箱上方開有觀察窗,力熱磁電加載平臺設置在觀察窗和背景散斑之間,CCD相機對準觀察窗并通過數據線與計算機相連;所述的背景散斑是人工生成的隨機圖像,所述的被測物體為透明物體。?
所述的力熱磁電加載平臺包括加載力的機械拉伸裝置、加載熱的電加熱裝置、加載電場的電極和加載磁場的電磁鐵或永磁鐵。?
本發明提供的物體在力熱磁電多場作用下折射率變化測量方法,該方法包括如下步驟測量物體在力熱磁電多場作用下折射率變化:?
其特征在于該方法包括如下步驟:?
a).將被測物體(7)置于力熱磁電加載平臺上夾持固定,設定CCD相機與被測物體距離為L,被測物體與背景散斑距離為D,被測物體厚度為B,垂直于厚度方向截面積為S,常溫下的折射率為no,CCD相機透過被測物體拍攝加載前背景散斑;?
b).用力熱磁電加載平臺(2)對被測物體分別施加力、熱、磁場、電場或同時施加所述幾種加載方式,并記錄加載狀態應力σ、溫度T、磁場強度H、電場強度E,用CCD相機透過被測物體拍攝加載后背景散斑;?
c).將加載前后的背景散斑圖輸入計算機(6),用數字圖像相關方法計算加載前后拍攝的背景散斑位移場(ΔXO,ΔYO),其中被測物體表面記為OXY平面,背景散斑平面記為OoXoYo平面,光線沿被測物體厚度方向垂直物體平面透過被測物體,其中ΔXO、ΔYO分別為相機記錄加載前后散斑x、y方向位移,φx、φy分別為光線沿被測物體厚度方向垂直物體表面透過被測物體后的沿x、y方向偏折角,φx、φy由下式計算:?
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于清華大學,未經清華大學許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201310610863.6/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





