[發(fā)明專利]巖心三維圖像修復(fù)方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310607240.3 | 申請日: | 2013-11-26 |
| 公開(公告)號: | CN103679650A | 公開(公告)日: | 2014-03-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 滕志奇;何小海;岳桂華;陳冬冬;李征驥 | 申請(專利權(quán))人: | 四川大學(xué) |
| 主分類號: | G06T5/00 | 分類號: | G06T5/00 |
| 代理公司: | 北京天奇智新知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11340 | 代理人: | 郭霞 |
| 地址: | 610000 四*** | 國省代碼: | 四川;51 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 巖心 三維 圖像 修復(fù) 方法 | ||
1.巖心三維圖像修復(fù)方法,其特征在于:包括以下步驟:
(1)提取缺失信息的巖心三維圖像即原始三維圖像中待修復(fù)區(qū)域Ω的初始邊界δΩ0,并設(shè)定模板大小;
(2)對原始三維圖像的已知區(qū)域Φ進(jìn)行區(qū)域劃分;
(3)計算原始三維圖像的邊界上所有體素q的邊界模板的優(yōu)先級值,所述體素q指三維數(shù)據(jù)場中的采樣點;
(4)搜索最大優(yōu)先級值的邊界模板Ψp,并保存邊界體素P的坐標(biāo);
(5)判斷邊界體素P的區(qū)域類型,并設(shè)置邊界模板Ψp的匹配塊的全局搜索區(qū)域;
(6)根據(jù)邊界體素P的匹配中心因子MCF和最大距離MD在相應(yīng)的范圍內(nèi)搜索最優(yōu)匹配塊Ψq,并進(jìn)行相應(yīng)體素的灰度值填充;
(7)更新或設(shè)置以下信息:置信度、邊界面δΩ、新產(chǎn)生的邊界體素P′的匹配中心因子MCF和最大距離MD,以及新產(chǎn)生的邊界模板Ψp′的優(yōu)先級值;
(8)重復(fù)步驟(4)~(7)直至填充完待修復(fù)區(qū)域Ω,即
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的巖心三維圖像修復(fù)方法,其特征在于:
所述步驟(2)中,將已知區(qū)域Φ劃分為各相(R1,R2,…Rn)和混合區(qū)域R0,有n相(D1,D2,…Dn)的巖心,劃分的區(qū)域種類為n+1類,劃分規(guī)則為:若則q∈Rm;若D(k)≠D(l),則q∈R0;其中,q為某一體素,Ψq為樣本塊,R0為混合區(qū)域,Dm為某一相,Rm為與Dm相對應(yīng)的區(qū)域;
所述步驟(3)中,原始三維圖像中的每一個體素q都存在一個灰度值和置信度C(q),當(dāng)體素沒有被填充時灰度值為空,體素q的置信度C(q)表示q的灰度值的可信度,初始化為:
每一個邊界體素P的模板即邊界模板Ψp都有一個優(yōu)先級值P(p),其定義為:
P(p)=C(p)D(p)
上式中,C(p)為邊界模板Ψp的置信度,用于衡量體素P周圍模塊范圍內(nèi)可靠信息的數(shù)量,D(p)為數(shù)據(jù)項,表示等照度面在邊界面δΩ處的強(qiáng)度,C(p)和D(p)的計算公式為:
其中,表示邊界模板Ψp中已被填充的體素,|Ψp|表示邊界模板Ψp的體積,α為歸一化因子,為邊界體素P的梯度向量,該梯度包含方向和大小,大小等于等照度面強(qiáng)度θ為邊界體素P處的邊界面δΩ與等照度面之間的夾角,也等于梯度向量與邊界面δΩ的法線np之間的夾角;
所述步驟(4)中,邊界體素P是邊界δΩ上的體素,邊界δΩ為所有邊界體素P的集合;
所述步驟(5)中,邊界體素P的區(qū)域類型的判定方法為:根據(jù)模板范圍內(nèi)所有已知體素的相位判定該邊界體素P屬于哪一相或混合區(qū)域;根據(jù)邊界體素P的區(qū)域類型設(shè)置邊界模板Ψp的匹配塊的全局搜索區(qū)域;
所述步驟(6)中,所述匹配中心因子MCF是邊界體素P相應(yīng)的匹配塊局部搜索區(qū)域的中心體素;所述最大距離MD表示在邊界體素P的匹配中心因子MCF不為空的情況下,局部搜索得到的最優(yōu)匹配塊Ψq與其邊界模板Ψp的距離的最大范圍;當(dāng)局部搜索得到的匹配塊與相應(yīng)的邊界模板Ψp的距離大于其最大距離MD時,該匹配塊將不能作為其最優(yōu)匹配塊,需重新全局搜索其最優(yōu)匹配塊;某一邊界體素P′的最大距離MD表示為:
MDP′=μ*d(Ψp,Ψq)
其中μ為比例參數(shù),通常設(shè)定為1及其較為臨近的值,邊界體素P′為填充邊界模板Ψp后新產(chǎn)生的邊界體素,根據(jù)邊界模板Ψp和其最優(yōu)匹配塊Ψq兩個模板之間的距離,設(shè)置邊界體素P′的最大距離MD;在設(shè)置新產(chǎn)生的邊界體素P′的匹配中心因子MCF時,同步設(shè)置其最大距離MD;匹配準(zhǔn)則為:
其中兩模板的距離為邊界模板Ψp和樣本塊對應(yīng)位置已知體素的灰度值之差的平方和;
得到最優(yōu)匹配塊Ψq后,用最優(yōu)匹配塊Ψq中已知的體素的灰度值填充邊界模板Ψp相應(yīng)位置上待修復(fù)的體素,此時已知區(qū)域Φ和待修復(fù)區(qū)域Ω也都相應(yīng)地發(fā)生了改變;
所述步驟(7)中,邊界模板Ψp中新填充的體素的置信度設(shè)置為邊界模板Ψp的置信度,即是:
若設(shè)置的模板是邊長為2winsize+1大小的立方體,那么在搜索新的邊界體素時,只需要以剛填充的邊界體素P為中心,在邊長為2(winsize+1)+1的立方體領(lǐng)域內(nèi)搜索新的邊界體素,并去除已填充的邊界體素,而不需要重新搜索整個邊界;對于填充邊界模板Ψp后新產(chǎn)生的邊界體素,需要設(shè)置其匹配中心因子MCF和最大距離MD;在更新邊界模塊Ψp的置信度和臨時優(yōu)先級值時,只需要對以邊界體素P為中心、邊長為4winsize+1大小的立方體鄰域內(nèi)的所有邊界體素進(jìn)行重新計算。
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