[發明專利]一種板材物料等離子體處理裝置

有效

• 申請號: 201310604694.5
• 申請日: 2013-11-26
• 公開（公告）號: CN103606507A
• 公開（公告）日: 2014-02-26
• 發明（設計）人: 沈文凱;王紅衛
• 申請（專利權）人: 蘇州市奧普斯等離子體科技有限公司
• 主分類號: H01J37/32
• 分類號: H01J37/32
• 代理公司: 蘇州華博知識產權代理有限公司 32232
• 代理人: 孟宏偉

技術領域

本發明屬于等離子體處理裝置，具體涉及一種顆粒狀物料等離子體處理裝置。

背景技術

材料表面改性處理技術是當前普遍使用的材料制備技術之一，它是在一定的外界條件下，材料外部物質和材料表面發生物理或化學反應，從而使材料表面狀態發生變化或在材料表面產生新的元素和新的基團，最終滿足實際應用的需要。

但是，現代工業的迅猛發展對材料耐磨擦、磨損和抗腐蝕等性能提出了更高的要求，與此同時，對環保的要求也越來越高，從而有力地推動被稱為綠色生產工藝的材料等離子表面改性技術的不斷發展。

然而，對于板材物料，它的表面積較大，并且厚度較高，現有的噴槍很難將整個大面積、高厚度的板材物料處理完全，因此存在處理板材物料不完全、不能全面覆蓋的隱患。因此，亟需一種等離子處理裝置能夠有效處理大面積、高厚度的板材物料。

發明內容

為了解決現有技術中存在的上述問題，提供一種板材物料等離子體表面處理裝置。

本發明的技術方案是：一種板材物料等離子體表面處理裝置，包括供電電源、傳送帶和噴槍，上述噴槍為等離子體噴槍，上述噴槍為等離子體噴槍，上述電源給噴槍供電，還包括至少兩排噴槍，上述每排噴槍至少包括兩個噴槍，上述噴槍呈陣列排列安裝在上述被處理的板材物料的正上方。

優選的，上述每排噴槍之間錯位設置。

優選的，還包括安裝架，所述噴槍安裝在所述安裝架朝向所述板材的一面。

優選的，上述安裝架上還設有氣缸，所述氣缸安裝在所述安裝架兩側，用于調節所述噴槍離所述傳送帶的距離。

優選的，傳送帶中設有滾輪，上述傳送帶采用可調速電機驅動。

本發明的有益效果是：一種板材物料等離子體表面處理裝置，包括供電電源、傳送帶和噴槍，所述噴槍為等離子體噴槍，所述電源給噴槍供電，包括至少兩排噴槍，所述每排噴槍至少包括兩個噴槍，所述噴槍呈陣列排列安裝在所述板材的正上方。由于本發明設有多個噴槍，由于每個噴槍都有他們的覆蓋區域，將多個噴槍呈陣列排列安裝在所述板材的正上方，并且每個噴槍錯開設置，可以使所有的噴槍的噴射范圍在被處理板材的上方能全面覆蓋被處理的板材物料，有效地達到處理效果。

附圖說明

圖1是本發明實施例1的結構示意圖；

圖2是本發明實施例2的結構示意圖；

圖中，1.噴槍?2.電源?3.傳送帶?4.氣缸?5.滾輪?6.安裝架。?

具體實施方式

下面結合附圖詳細說明本發明的具體實施例。

實施例1

如圖1所示，一種一種板材物料等離子體表面處理裝置，包括供電電源2、傳送帶3和噴槍1，所述噴槍1為等離子體噴槍，所述電源2給噴槍1供電，本發明包括至少兩排噴槍1，所述每排噴槍至少包括兩個噴槍1，所述噴槍1呈陣列排列安裝在所述被處理板材的正上方的安裝架6上，噴槍1安裝在安裝架6朝向所述板材的一面。安裝架6上每排安裝25個噴槍1，總共安裝10排，并且每排噴槍1錯位穿插在一起，使的噴槍能全面覆蓋被處理的板材物料。

工作時，板材物料擱置在傳送帶上3，傳送帶3沿圖中箭頭按一定速度傳送，在傳送的過程中，噴槍對板材物料進行等離子體處理，傳送帶3傳送完板材物料，等離子體噴槍便也對板材等離子體處理完畢。

實施例2

如圖2所示，其余與實施例1?相同，不同之處在于，在安裝架兩側還設有用于升降安裝架的氣缸，由于噴槍安裝在安裝架上，可以用來調節噴槍和傳送帶之間的距離，也即調節噴槍和被處理的板材物料之間的距離。?

實施例3

其余與實施例2相同，不同之處在于，傳送帶上設有滾輪5，傳送帶采用可調速的電機驅動，可以根據需要調節傳送帶傳動的速度，使的板材物料能有效的達到處理效果。

實施例4

其余與實施例3相同，不同之處在于，安裝架6上每排安裝30個噴槍1，總共安裝15排，安裝得越密集，則覆蓋的越全面，因此越能達到好的處理板材物料效果。

本發明的有益效果是：一種板材物料等離子體表面處理裝置，包括供電電源、傳送帶和噴槍，所述噴槍為等離子體噴槍，所述電源給噴槍供電，包括至少兩排噴槍，所述每排噴槍至少包括兩個噴槍，所述噴槍呈陣列排列安裝在所述板材的正上方。由于本發明設有多個噴槍，由于每個噴槍都有他們的覆蓋區域，將多個噴槍呈陣列排列安裝在所述板材的正上方，并且每個噴槍錯開設置，可以使噴槍在被處理板材的上方能全面覆蓋被處理的板材物料，有效地達到處理效果。

以上所述的僅是本發明的優選實施方式，應當指出，對于本領域的普通技術人員來說，在不脫離本發明創造構思的前提下，還可以做出若干變形和改進，這些都屬于本發明的保護范圍。