[發明專利]一種光學防偽元件及使用該光學防偽元件的光學防偽產品

有效

• 申請號: 201310596824.5
• 申請日: 2013-11-22
• 公開（公告）號: CN104647936B
• 公開（公告）日: 2018-05-04
• 發明（設計）人: 張寶利;朱軍;王曉利;曲欣;張巍巍
• 申請（專利權）人: 中鈔特種防偽科技有限公司;中國印鈔造幣總公司
• 主分類號: B42D25/30
• 分類號: B42D25/30;B42D25/40
• 代理公司: 北京潤平知識產權代理有限公司11283
• 代理人: 陳瀟瀟,肖冰濱

技術領域

本發明涉及光學防偽領域，尤其涉及一種光學防偽元件以及使用該光學防偽元件的光學防偽產品。

背景技術

為了防止利用掃描和復印等手段產生的偽造，鈔票、證卡和產品包裝等各類高安全或高附加值印刷品中廣泛采用了光學防偽技術，并且取得了非常好的效果。

干涉型多層鍍層技術作為一種光學防偽技術已被廣泛用于鈔票等高防偽有價證券的公眾防偽，其能夠呈現各種顏色特征或在不同的觀察角度下能夠呈現不同的顏色，便于描述，易于公眾識別，且無法利用照相機、掃描儀、打印機等電子設備模仿或復制，所以具有很高的防偽能力。

但是，由于干涉型多層鍍層產品應用已經有數十年的時間，單純的干涉型多層鍍層技術已經不能很好地滿足防偽領域的需求。干涉型多層鍍層已與鏤空、全息、顏色配對等技術相結合并提供了新的防偽特征。例如，專利申請US5766738、US6114018以及US7729026中提出通過選擇適當的干涉型多層鍍層厚度與顏色來實現顏色匹配特征。

對干涉型多層鍍層的圖案化可以采用多種表面浮雕結構，如全息光柵等衍射結構、幾微米及以上尺寸的非衍射結構或亞波長結構，在采用這些表面浮雕結構形成的圖案化區域上制作干涉型多層鍍層，從而形成多種防偽特征。例如，專利申請CN201080061926及US2010307705等文獻中有描述。

對干涉型多層鍍層的鏤空目前較多采用結合印刷工藝的水洗或堿洗鏤空工藝。例如，專利申請CN200810219559及CN201110449414分別描述了堿洗鏤空和水洗鏤空脫鋁工藝。此類鏤空技術適用于干涉型多層鍍層本身不存在圖案化的信息或其包含的圖案化信息與鏤空圖案之間對位精度要求不高的情況，這是由于其所謂鏤空區域是由印刷的水洗膠或堿洗保護膠的圖案所決定，而印刷過程無法完成與干涉型多層鍍層上帶有的圖案的準確對位。

發明內容

本發明的目的在于提供一種具有易識別且難偽造特點的光學防偽元件以及使用該光學防偽元件的光學防偽產品，該光學防偽元件及光學防偽產品能夠實現由表面浮雕結構和干涉型多層鍍層共同形成的光學防偽特征與不含干涉型多層鍍層的區域（鏤空區域）的圖案的精確對位。

本發明提供一種光學防偽元件，該光學防偽元件包括：

基材；

形成于所述基材的同一表面上的第一表面浮雕結構層和第二表面浮雕結構層，其中所述第一表面浮雕結構層的表面積與表觀面積的比值小于所述第二表面浮雕結構層的表面積與表觀面積的比值；以及

形成于所述第一表面浮雕結構層上的第一干涉型多層鍍層和/或形成于所述第二表面浮雕結構層上的第二干涉型多層鍍層。

本發明還提供一種使用上述光學防偽元件的光學防偽產品。

由于根據本發明的光學防偽元件和光學防偽產品中第一干涉型多層鍍層將準確地覆蓋第一表面浮雕結構層而不覆蓋第二表面浮雕結構層，第二干涉型多層鍍層將準確地覆蓋第二表面浮雕結構層而不覆蓋第一表面浮雕結構層，從而完成了鏤空區域與由第一（或第二）表面浮雕結構層與第一（或第二）干涉型多層鍍層所形成的光學防偽圖案的嚴格對位關系，增強了光學防偽元件及產品的防偽能力。同時，第一（或第二）表面浮雕結構層能夠與第一（或第二）干涉型多層鍍層相互配合以獲得期望的光學效果，其與鏤空共同形成了增強的光學防偽能力。

當所述第一（或第二）表面浮雕結構層采用非衍射表面浮雕結構時，其與第一（或第二）干涉型多層鍍層共同作用形成對第一（或第二）干涉型多層鍍層的結構起伏形狀調制，結合第一（或第二）干涉型多層鍍層提供的對入射光線的選擇吸收和反射作用，從而形成光學防偽特征。

當所述第一（或第二）表面浮雕結構層采用衍射表面浮雕結構時，除其對第一（或第二）干涉型多層鍍層的結構起伏形狀調制外，衍射表面浮雕結構本身對入射光線形成衍射分光作用，結合第一（或第二）干涉型多層鍍層提供的對入射光線的選擇吸收和反射作用，從而形成光學防偽特征。

附圖說明

圖1為根據本發明一個實施方式的光學防偽元件的剖面圖；

圖2為根據本發明另一個實施方式的光學防偽元件的剖面圖；

圖2a為根據本發明又一個實施方式的光學防偽元件的剖面圖；

圖3為根據本發明又一個實施方式的光學防偽元件的剖面圖；

圖4(a)、4(b)、4(c)分別示出了從第一表面浮雕結構層上方俯視觀察第一表面浮雕結構層為柱面鏡時的排列圖示、立體結構示意圖及截取的部分截面圖；