[發(fā)明專利]晶圓正面的器件圖形與背面的背孔對準(zhǔn)的檢測方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310582610.2 | 申請日： | 2013-11-19 |
| 公開（公告）號： | CN104655006A | 公開（公告）日： | 2015-05-27 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 劉國安;徐偉;劉煊杰 | 申請（專利權(quán)）人： | 中芯國際集成電路制造（上海）有限公司 |
| 主分類號： | G01B11/00 | 分類號： | G01B11/00;B81C1/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227 | 代理人： | 駱蘇華 |
| 地址： | 201203 *** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 正面 器件 圖形 背面 對準(zhǔn) 檢測 方法 | ||
1.一種晶圓正面的器件圖形與背面的背孔對準(zhǔn)的檢測方法，其特征在于，包括：
提供晶圓，所述晶圓具有正面和背面；
在所述晶圓的正面形成絕緣層；
在所述絕緣層上表面形成檢測標(biāo)記，所述檢測標(biāo)記與絕緣層之間具有色差；
在所述絕緣層上形成器件圖形，所述器件圖形與絕緣層接觸的下表面邊界和所述檢測標(biāo)記在垂直于晶圓正面方向上具有第一對準(zhǔn)位置；
在所述晶圓的背面形成背孔，所述背孔露出絕緣層；
使用光學(xué)顯微鏡通過背孔開口觀察，得到所述背孔底部邊界和所述檢測標(biāo)記在垂直于晶圓正面方向上的第二對準(zhǔn)位置，當(dāng)所述第二對準(zhǔn)位置和所述第一對準(zhǔn)位置相同，則判定器件圖形和背孔在垂直于晶圓正面方向上對準(zhǔn)，當(dāng)所述第二對準(zhǔn)位置和所述第一對準(zhǔn)位置不相同，則判定器件圖形和背孔在垂直于晶圓正面方向上未對準(zhǔn)。
2.如權(quán)利要求1所述的檢測方法，其特征在于，所述檢測標(biāo)記的形狀和器件圖形下表面的部分邊界線或全部邊界線形狀相同，所述第一對準(zhǔn)位置為器件圖形下表面邊界和相鄰的檢測標(biāo)記之間的第一對準(zhǔn)距離，所述第二對準(zhǔn)位置為背孔和相鄰的檢測標(biāo)記在平行于絕緣層上表面的同一平面上的投影之間的第二對準(zhǔn)距離；
所述第二對準(zhǔn)位置和所述第一對準(zhǔn)位置相同是指，所述第二對準(zhǔn)距離和第一對準(zhǔn)距離相等；所述第二對準(zhǔn)位置和所述第一對準(zhǔn)位置不相同是指，所述第二對準(zhǔn)距離和第一對準(zhǔn)距離不相等。
3.如權(quán)利要求2所述的檢測方法，其特征在于，所述第一對準(zhǔn)距離為0。
4.如權(quán)利要求2所述的檢測方法，其特征在于，所述檢測標(biāo)記關(guān)于器件圖形下表面的中心呈對稱分布。
5.如權(quán)利要求1所述的檢測方法，其特征在于，所述檢測標(biāo)記包括呈十字相對的兩組刻度線，分別為第一組刻度線和第二組刻度線；
所述第一組刻度線包括十字的一條直線上的多條相互隔開的第一刻度線，所述第二組刻度線包括十字的另一條直線上的多條相互隔開的第二刻度線；
所述十字的交點(diǎn)位于器件圖形下表面的邊界范圍內(nèi)，所述器件圖形下表面邊界在所述第一組刻度線上具有兩個(gè)第一交點(diǎn)，在所述第二組刻度線上具有兩個(gè)第二交點(diǎn)，所述第一對準(zhǔn)位置為第一交點(diǎn)到十字的交點(diǎn)的第一距離和第二交點(diǎn)到十字的交點(diǎn)的第二距離；
所述背孔底部邊界在所述第一組刻度線上具有兩個(gè)第三交點(diǎn)，在所述第二組刻度線上具有兩個(gè)第四交點(diǎn)，所述第二對準(zhǔn)位置為第三交點(diǎn)到十字的交點(diǎn)的第三距離和第四交點(diǎn)到十字的交點(diǎn)的第四距離；
將所述第一距離和第三距離進(jìn)行比較，將所述第二距離和第四距離進(jìn)行比較：
當(dāng)所述第一距離和第三距離相同，且所述第二距離和第四距離相同，判定所述第二對準(zhǔn)位置和第一對準(zhǔn)位置相同；
當(dāng)所述第一距離和第三距離不相同，且所述第二距離和第四距離相同，或者所述第一距離和第三距離相同，且所述第二距離和第四距離不相同，或者所述第一距離和第三距離不相同，且所述第二距離和第四距離不相同，則判定所述第二對準(zhǔn)位置和第一對準(zhǔn)位置不相同。
6.如權(quán)利要求5所述的檢測方法，其特征在于，所述第一組刻度線關(guān)于十字的交點(diǎn)對稱分布。
7.如權(quán)利要求5或6所述的檢測方法，其特征在于，所述第二組刻度線關(guān)于十字的交點(diǎn)對稱分布。
8.如權(quán)利要求5所述的檢測方法，其特征在于，相鄰兩第一刻度線之間的距離相等。
9.如權(quán)利要求5或8所述的檢測方法，其特征在于，相鄰兩第二刻度線之間的距離相等。
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