[發(fā)明專利]氧化銦錫圖案曝光裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310547903.7
• 申請日: 2013-11-07
• 公開（公告）號: CN103926808B
• 公開（公告）日: 2017-10-13
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 行田道知;淺見正利
• 申請（專利權(quán)）人: 株式會社阿迪泰克工程
• 主分類號: G03F9/00
• 分類號: G03F9/00;G03F1/42
• 代理公司: 北京三友知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司11127
• 代理人: 李輝,黃綸偉

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及ITO（Indium Tin Oxide：氧化銦錫）圖案曝光裝置，其用于在觸摸板用的膜電極制造中，在稱作PET（Polyethylene terephthalate：聚對苯二甲酸乙二醇酯）膜的透明膜上形成ITO圖案。

背景技術(shù)

智能手機(jī)和平板電腦終端的畫面上的觸摸板由在透明膜上形成的透明電極構(gòu)成。該透明電極由在透明膜上形成的ITO的膜的圖案構(gòu)成。而且，隨著近年的智能手機(jī)和平板電腦終端的普及，對該ITO膜的配線圖案的高精細(xì)化的要求提高，而作為實(shí)現(xiàn)它的一個手段采用了光刻（Photolithography）。

在光刻中，使描繪有電路圖案的掩模與放置于載臺上的透明的PET膜重合，利用照相機(jī)對在它們各自的表面設(shè)置的對位用的膜標(biāo)記和掩模標(biāo)記的位置進(jìn)行觀測，并通過圖像處理求出它們的位置差分，之后，沿x、y、θ方向調(diào)整載臺的位置來進(jìn)行兩者的對位，然后，曝光紫外線，將掩模上的圖案轉(zhuǎn)印到涂布在PET膜上的感光抗蝕劑。

關(guān)于掩模，存在玻璃掩模和膜掩模等，但從性價比的方面出發(fā)，主要采用膜掩模，將膜掩模貼合在用于支承它的、由玻璃或樹脂等透明體制成的掩模架來使用。

在這樣的ITO圖案曝光裝置中，作為大的問題點(diǎn)，存在上述膜掩模和PET膜的對位困難的問題。

其原因之一是，PET膜上的膜標(biāo)記由ITO膜（透明電極）形成，而ITO膜對于可視光是透明的，因此對膜標(biāo)記的位置的識別困難。

因此進(jìn)行了以下等措施：以ITO膜的透過率低、反射率高的、比近紫外區(qū)（波長400nm左右）短的波長進(jìn)行照射并利用照相機(jī)拍攝，或者相對于掩模架的玻璃面垂直地照射，由此增大ITO膜的膜標(biāo)記和玻璃表面部之間的反射率差。

另外，還提出了以下等方法：在ITO膜上利用金屬膜另行形成對準(zhǔn)標(biāo)記（專利文獻(xiàn)1）；或在裝置側(cè)采用能夠根據(jù)ITO的分光反射率選擇照明波長的結(jié)構(gòu)來進(jìn)行標(biāo)記識別（專利文獻(xiàn)2）。

專利文獻(xiàn)1：日本特開2011-100360號公報

專利文獻(xiàn)2：日本特公平5-87763號公報

作為膜標(biāo)記的位置識別困難的原因，除了ITO膜為透明之外，還有干涉條紋的產(chǎn)生，該干涉條紋使對位的精度大大降低。

在圖8中示出了如下狀態(tài)：在PET膜5’上設(shè)有由ITO膜形成的膜標(biāo)記60’，在膜標(biāo)記60’上形成有抗蝕膜51’，在此上重合保持于玻璃制的掩模架3’上的膜掩模1’，來進(jìn)行膜掩模1’的掩模標(biāo)記10’和膜標(biāo)記60’的對位，并且，從上方照射照相機(jī)的照明裝置的照明入射光95。

在膜掩模1’和掩模架3’的掩模架玻璃30’之間存在微米級的微小間隙S，由于該間隙S，如圖所示地產(chǎn)生了照明入射光95在掩模架玻璃30’的背面32’反射的反射光與在膜掩模1’的表面12’反射的反射光干涉而出現(xiàn)干涉條紋F的現(xiàn)象。該干涉條紋F隨著間隙S的大小的變化而變化。雖然干涉條紋F所具有的光強(qiáng)度變化很小，但由于ITO膜的對位標(biāo)記60’自身的對比度低，因此存在干涉條紋F成為噪聲圖像，對基于圖像處理的膜標(biāo)記識別造成妨礙的問題。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于解決上述現(xiàn)有技術(shù)的問題。

為達(dá)成上述目的，本發(fā)明的ITO圖案曝光裝置具備：膜掩模，所述膜掩模描繪有待曝光的電路圖案；和掩模架，所述掩模架由支承所述膜掩模的透明體構(gòu)成，該ITO圖案曝光裝置在具有待形成所述電路圖案的ITO膜的透明膜上進(jìn)行曝光，其特征在于，所述ITO圖案曝光裝置具有：對位用的膜標(biāo)記，其具有在所述透明膜上設(shè)置的ITO膜；掩模孔，其比所述膜標(biāo)記大，所述掩模孔設(shè)在所述膜掩模的與所述膜標(biāo)記對應(yīng)的位置；以及對位用的掩模標(biāo)記，其設(shè)在所述掩模孔的周圍。

在以上結(jié)構(gòu)中，通過掩模孔消除了來自膜掩模表面的反射光，消除了其與掩模架背面的反射光之間的干涉條紋，能夠良好地進(jìn)行膜標(biāo)記的識別。

另外，期望所述ITO圖案曝光裝置還具備吸附槽，所述吸附槽設(shè)于所述掩模架，用于使所述膜掩模的掩模孔的周圍吸附于掩模架。利用該結(jié)構(gòu)，防止空氣從掩模孔流入，防止了在以孔為中心的廣大范圍內(nèi)膜掩模與掩模架之間的貼合度的降低，能夠防止曝光分辨率的惡化。

根據(jù)本發(fā)明的ITO圖案曝光裝置，具有如下效果：防止了干涉條紋的產(chǎn)生，能夠良好地保持膜掩模的圖像識別，并能夠在維持曝光分辨率的狀態(tài)下進(jìn)行高精度的對準(zhǔn)曝光。

附圖說明

圖1是示出本發(fā)明的一個實(shí)施方式的概略立體圖。

圖2是示出本發(fā)明的一個實(shí)施方式的局部側(cè)剖視圖。

圖3是示出本發(fā)明的一個實(shí)施方式的動作的說明圖。