[發(fā)明專利]一種標(biāo)定位移平臺(tái)線性度的方法及系統(tǒng)在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310526171.3 | 申請(qǐng)日: | 2013-10-29 |
| 公開(公告)號(hào): | CN103529655A | 公開(公告)日: | 2014-01-22 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李顯杰;趙飛;陳勇 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 天津芯碩精密機(jī)械有限公司 |
| 主分類號(hào): | G03F7/20 | 分類號(hào): | G03F7/20;G01B11/00 |
| 代理公司: | 天津市三利專利商標(biāo)代理有限公司 12107 | 代理人: | 閆俊芬 |
| 地址: | 300457 天津市*** | 國(guó)省代碼: | 天津;12 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 標(biāo)定 位移 平臺(tái) 線性 方法 系統(tǒng) | ||
1.一種標(biāo)定位移平臺(tái)線性度的方法,在激光成像系統(tǒng)中使用,其特征在于,
第1步,第一圖像采集設(shè)備獲取標(biāo)定尺上第一固定圖形位置進(jìn)行定位,獲取所述第一圖像采集設(shè)備的位置坐標(biāo);
第2步,第二圖像采集設(shè)備從相鄰所述第一固定圖形的第二固定圖形起始,沿同一方向依次獲取所述標(biāo)定尺上的固定圖形位置進(jìn)行定位,依次獲取所述第二圖像采集設(shè)備的位置坐標(biāo);
第3步,設(shè)定所述標(biāo)定尺固定圖形的間距為L(zhǎng),設(shè)定獲取的所述第一圖像采集設(shè)備的位置坐標(biāo)為P1,獲取的所述第二圖像采集設(shè)備的位置坐標(biāo)依次為P2、P3、P4,計(jì)算P1與P2的距離為L(zhǎng)1,計(jì)算P3與P4的距離為L(zhǎng)2,通過下述得到線性度值X:根據(jù)所述線性度值可以表征所述位移平臺(tái)的線性度。
2.一種標(biāo)定位移平臺(tái)線性度的系統(tǒng),應(yīng)用于激光成像系統(tǒng)中,其特征在于,包括:工作平臺(tái)、吸盤、標(biāo)定尺、第一圖像采集設(shè)備、第二圖像采集設(shè)備、位移平臺(tái)、龍門,所述吸盤放置于所述工作平臺(tái)上,所述標(biāo)定尺設(shè)置有等間距的固定圖形,且放置于所述吸盤一側(cè),所述工作平臺(tái)上設(shè)有龍門,所述第一圖像采集設(shè)備與所述龍門上固定連接,所述第二圖像采集設(shè)備與所述龍門滑動(dòng)連接,所述第二圖像采集設(shè)備與所述位移平臺(tái)固定連接。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工藝;圖紋面照相制版用的材料,如:含光致抗蝕劑的材料;圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類似印刷模的制作,例如,鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備
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