[發(fā)明專利]襯底處理設(shè)備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310524521.2
• 申請日: 2009-09-04
• 公開（公告）號: CN103594396A
• 公開（公告）日: 2014-02-19
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 李浩喆;崔善弘;李丞浩;李智訓(xùn);李東奎;李太浣
• 申請（專利權(quán)）人: 周星工程股份有限公司
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67
• 代理公司: 北京律盟知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11287
• 代理人: 林彥

1.一種襯底處理設(shè)備，其包括：

腔室，其中具有反應(yīng)空間；

襯底安放部件，其安置在所述腔室中以使襯底安放在所述襯底安放部件上；

感應(yīng)加熱單元，其用以通過感應(yīng)加熱來加熱所述襯底安放部件；以及

絕熱部件，其安置在所述感應(yīng)加熱單元與所述襯底安放部件之間，其中所述絕熱部件在其中包括絕熱體。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的襯底處理設(shè)備，其中所述絕熱部件包括安置在所述反應(yīng)空間中且于其中收藏所述絕熱體的下部主體，以及覆蓋所述下部主體的上部蓋，且其中所述絕熱體使用氧化鋁系列的絕熱體、硅石系列的絕熱體以及碳?xì)种械囊徽呋蚨嗾摺?/p>

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的襯底處理設(shè)備，其中在所述下部主體和所述上部蓋各自的組合平面中，凹入圖案或凸?fàn)顖D案形成于所述下部主體的組合平面上，且對應(yīng)于所述下部主體的組合平面，凹入圖案或凸?fàn)顖D案形成于所述上部蓋的組合平面上。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的襯底處理設(shè)備，其進(jìn)一步包括密封座，所述密封座沿所述下部主體和所述上部蓋的組合平面的側(cè)面而附接。

5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的襯底處理設(shè)備，其進(jìn)一步包括環(huán)形絕熱部件，所述環(huán)形絕熱部件安置在所述襯底安放部件與所述腔室的內(nèi)側(cè)壁之間，且其中包含環(huán)形絕熱體。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的襯底處理設(shè)備，其中所述環(huán)形絕熱部件包括安置在所述反應(yīng)空間中且于其中收藏所述環(huán)形絕熱體的下部主體，以及覆蓋所述下部主體的上部蓋，且其中所述環(huán)形絕熱體使用氧化鋁系列的絕熱體、硅石系列的絕熱體以及碳?xì)种械囊徽呋蚨嗾摺?/p>

7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的襯底處理設(shè)備，其中所述絕熱體由氧化鋁系列的材料、硅石系列的材料以及碳?xì)种械囊徽呋蚨嗾咧瞥伞?/p>

8.根據(jù)權(quán)利要求2所述的襯底處理設(shè)備，其中所述絕熱部件經(jīng)劃分為多個部分并在水平方向組合而形成。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的襯底處理設(shè)備，其中所述絕熱體的電荷量、厚度或種類在所述絕熱部件的所述多個部分的每一部分中改變。

10.一種襯底處理設(shè)備，其包括：

腔室，其中具有反應(yīng)空間；

襯底安放部件，其安置在所述腔室中以使襯底安放在所述襯底安放部件上；

感應(yīng)加熱單元，其用以通過感應(yīng)加熱來加熱所述襯底安放部件；

窗口部件，其安置在所述感應(yīng)加熱單元上方；

至少一個絕熱部件，其安置在所述窗口部件與所述襯底安放部件之間；以及多個支撐輪軸，其安置在所述窗口部件與所述絕熱部件之間。

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的襯底處理設(shè)備，其中所述絕熱部件安置在所述反應(yīng)空間中，而且使用阻擋進(jìn)入所述絕熱部件的輻射熱且不影響所述感應(yīng)加熱的不透明石英、SiC和陶瓷中的一者或多者。

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的襯底處理設(shè)備，其中所述絕熱部件包括對應(yīng)于所述襯底安放部件的下側(cè)面的板狀絕熱主體以及對應(yīng)于所述襯底安放部件的側(cè)壁面的突出主體。

13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的襯底處理設(shè)備，其中所述絕熱部件包括對應(yīng)于所述襯底安放部件的下側(cè)面的板狀絕熱主體以及覆蓋所述感應(yīng)加熱單元的側(cè)面的延伸主體。

14.根據(jù)權(quán)利要求11所述的襯底處理設(shè)備，其中所述絕熱部件形成為具有中心區(qū)或邊緣區(qū)處的厚度大于其他區(qū)域的厚度或具有從中心區(qū)到邊緣區(qū)而變大的厚度。

15.根據(jù)權(quán)利要求10所述的襯底處理設(shè)備，其中所述感應(yīng)加熱單元包括安置于所述絕熱部件下方的感應(yīng)線圈以及向所述感應(yīng)線圈提供高頻功率的功率供應(yīng)源。

16.根據(jù)權(quán)利要求10所述的襯底處理設(shè)備，其中所述窗口部件由能透過電磁力的材料形成且具有大于感應(yīng)線圈的整個直徑的直徑。