[發明專利]一種納米顆粒制備系統及其制備方法

無效

• 申請號: 201310495222.0
• 申請日: 2013-10-16
• 公開（公告）號: CN103523748A
• 公開（公告）日: 2014-01-22
• 發明（設計）人: 袁廣友
• 申請（專利權）人: 蘇州元泰自動化科技有限公司
• 主分類號: B82B3/00
• 分類號: B82B3/00;B82Y40/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種納米顆粒制備系統，其特征在于，包括用于制備納米顆粒的電弧發生器、引發所述電弧發生器產生電弧的高容量電容和高壓電產生裝置，所述高壓電產生裝置、所述高容量電容和所述電弧發生器依次電連接；

所述電弧發生器連接有收集納米顆粒的顆粒收集器；

所述電弧發生器上還裝設有用于冷卻所述電弧發生器的冷卻系統。

2.根據權利要求1所述的納米顆粒制備系統，其特征在于，所述電弧發生器上設置有用于產生電弧的兩個電極，所述兩個電極相對設置，位于同一水平面上，且所述兩個電極端部未接觸。

3.根據權利要求2所述的納米顆粒制備系統，其特征在于，在所述兩個電極外側套設有所述冷卻系統。

4.根據權利要求3所述的納米顆粒制備系統，其特征在于，在所述電極未接觸上方設置有運載氣體通過的第一進口，下方設置有顆粒物和氣體通過的第一出口。

5.根據權利要求4所述的納米顆粒制備系統，其特征在于，在遠離所述第一進口的所述電極端部均設置有用于自動加載消耗電極的電極加載系統，所述電極加載系統包括馬達和在所述馬達驅使下帶動所述電極運動的傳動軸。

6.根據權利要求5所述的納米顆粒制備系統，其特征在于，所述顆粒收集器包括運載氣體和顆粒通過的第二進口和第二出口，所述第二進口與所述第一出口相連接。

7.根據權利要求6所述的納米顆粒制備系統，其特征在于，所述電弧發生器上還連接有用于檢測電極間距離的電極間距探測儀。

8.根據權利要求7所述的納米顆粒制備系統，其特征在于，在所述顆粒收集器后還裝設有氣泵。

9.一種納米顆粒制備方法，采用權利要求1-8所述的納米顆粒制備系統，其特征在于，具體步驟如下：

(1)所述高壓電產生裝置將220V電壓轉換成高壓電；

(2)將上述轉換成的高壓電能量儲存在所述高容量電容中；

(3)當能量到達峰值時，所述高容量電容釋放能量；

(4)從所述高容量電容中釋放的能量，激發所述電弧發生器產生電弧；

(5)產生的電弧揮發電極；

(6)所述冷卻系統對整個電弧發生器進行冷卻，當運載氣體到達電弧發生器時被冷卻，此時所述電極揮發物產生納米顆粒，并且將納米顆粒帶出所述電弧發生器；

(7)納米顆粒收集器將產生的納米顆粒全部收集起來待用。

10.根據權利要求9所述的納米顆粒制備方法，其特征在于，所述的納米顆粒經過所述氣泵排出所述顆粒收集器。