[發(fā)明專利]輻射形狀濾波器的選擇

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201310491624.3
• 申請(qǐng)日: 2013-10-18
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN103767717A
• 公開(kāi)（公告）日: 2014-05-07
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: H-C.貝克爾;T.弗洛爾;B.施米特
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 西門子公司;慕尼黑克利尼庫(kù)姆大學(xué)
• 主分類號(hào): A61B6/00
• 分類號(hào): A61B6/00;A61B6/03
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務(wù)所 11105
• 代理人: 謝強(qiáng)

1.一種用于選擇輻射形狀濾波器（200_a,200_b,200_c,200_d,200_e,200_f,200_a',200_b'）的方法，所述輻射形狀濾波器改變成像系統(tǒng)（10）的X射線源（100,100_a,100_b）的X射線輻射（R,R'）的強(qiáng)度的空間分布和/或光譜，其中：

-采集檢查對(duì)象（O）的解剖測(cè)量數(shù)據(jù)（T,B），從所述解剖測(cè)量數(shù)據(jù)應(yīng)當(dāng)在下一個(gè)步驟中借助成像系統(tǒng)（10）進(jìn)行成像，

-基于所采集的檢查對(duì)象（O）的解剖測(cè)量數(shù)據(jù)（T,B）自動(dòng)地進(jìn)行輻射形狀濾波器（200_a,200_b,200_c,200_d,200_e,200_f,200_a',200_b'）的選擇。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，自動(dòng)地確定檢查對(duì)象（O）的至少一個(gè)解剖參數(shù)或參數(shù)值，在其基礎(chǔ)上可以選擇輻射形狀濾波器（200_a,200_b,200_c,200_d,200_e,200_f,200_a',200_b'），其中優(yōu)選自動(dòng)地確定所有為自動(dòng)的選擇而考慮的解剖參數(shù)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法，其中，自動(dòng)地基于檢查對(duì)象的尺寸和/或檢查區(qū)域（U）的空間位置，進(jìn)行輻射形狀濾波器（200_a,200_b,200_c,200_d,200_e,200_f,200_a',200_b'）的選擇。

4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的方法，其中，自動(dòng)地基于X射線輻射（R,R'）穿過(guò)檢查對(duì)象（O）的預(yù)計(jì)衰減進(jìn)行輻射形狀濾波器（200_a,200_b,200_c,200_d,200_e,200_f,200_a',200_b'）的選擇。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其中，自動(dòng)確定X射線輻射（R,R'）的預(yù)計(jì)衰減。

6.根據(jù)權(quán)利要求1至5中任一項(xiàng)所述的方法，其中，所述解剖測(cè)量數(shù)據(jù)（T,B）的確定包括檢查對(duì)象（O）的拍攝。

7.根據(jù)上述權(quán)利要求6所述的方法，其中，檢查對(duì)象的拍攝借助照相機(jī)（300）進(jìn)行，其基于在可見(jiàn)光波長(zhǎng)范圍內(nèi)的和/或在IR范圍內(nèi)的光產(chǎn)生圖像數(shù)據(jù)（B）和/或其中所述拍攝包括定位片（T）。

8.一種用于控制具有一個(gè)或多個(gè)輻射形狀濾波器（200_a,200_b,200_c,200_d,200_e,200_f,200_a',200_b'）的輻射形狀濾波器裝置（220）的方法，其中，在使用按照權(quán)利要求1至7中任一項(xiàng)所述的方法的條件下借助選擇單元（50）選擇輻射形狀濾波器（200_a,200_b,200_c,200_d,200_e,200_f,200_a',200_b'）并且自動(dòng)將選擇的輻射形狀濾波器（200_a,200_b,200_c,200_d,200_e,200_f,200_a',200_b'）引入到X射線源（100,100a,100_b）的射線路程中。