[發明專利]一種集成式陰極電弧靶

有效

• 申請號: 201310473310.0
• 申請日: 2013-10-12
• 公開（公告）號: CN103469166A
• 公開（公告）日: 2013-12-25
• 發明（設計）人: 黃志宏;張早娣;閆少健;付德君
• 申請（專利權）人: 武漢大學
• 主分類號: C23C14/32
• 分類號: C23C14/32
• 代理公司: 武漢科皓知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 42222
• 代理人: 張火春

1.集成式陰極電弧靶，其特征在于，包括：

水冷陰極（1）、陽極（2）、絕緣組件（3）、限弧機構（4）、磁場機構（5）、檔板機構（6）和引弧機構（7），水冷陰極（1）包括靶（13），引弧機構（7）包括引弧針（72）；其中：

水冷陰極（1）通過絕緣組件（3）安裝于陽極（2）；

限弧機構（4）固定于絕緣組件（3），用來限制弧斑的運動范圍；

磁場機構（5）固定于水冷板（11）且位于陽極（2）和水冷陰極（1）之間，用來調節冷陰極（10）的靶（13）面的磁場強度；

擋板機構（6）和引弧機構（7）固定于陽極（2），引弧機構（7）的引弧針（72）與水冷陰極（10）的靶（13）面接觸。

2.如權利要求1所述的集成式陰極電弧靶，其特征在于：

所述的水冷陰極（1）包括水冷板（11）、導熱板（12）、靶（13）、進出水管（15）和導電環（16），進出水管（15）固定于水冷板（11）上，水冷板（11）上壓導熱板（12），靶（13）固定于水冷板（11）上且緊貼導熱板（12），導電環（16）通過螺栓固定于水冷板（11）上。

3.如權利要求2所述的集成式陰極電弧靶，其特征在于：

所述的水冷板（11）上設有蛇形導流槽。

4.如權利要求2所述的集成式陰極電弧靶，其特征在于：

所述的靶（13）設有兩個臺階。

5.如權利要求1所述的集成式陰極電弧靶，其特征在于：

所述的陽極（2）包括陽極基板（21）和陽極罩（22），陽極罩（22）固定于陽極基板（21）上；陽極基板（21）主體為第一法蘭，其上焊有3個第二法蘭。

6.如權利要求2所述的集成式陰極電弧靶，其特征在于：

所述的絕緣組件（3）包括絕緣環（31）、第一絕緣件（32）和第二絕緣件（33），絕緣環（31）為與導電環（16）相匹配的環狀結構，第一絕緣件（32）為與銅螺栓（18）相匹配的中空管狀結構，第二絕緣件（33）為與進出水管（15）相匹配的中空管狀結構。

7.如權利要求1所述的集成式陰極電弧靶，其特征在于：

所述的限弧機構（4）包括限弧罩（41）和桶狀組件（42），限弧罩（41）為一帶度錐孔的環形結構，桶狀組件（42）固定于限弧罩（41）一端。

8.如權利要求1所述的集成式陰極電弧靶，其特征在于：

所述的磁場機構（5）包括環形磁鐵（51），環形磁鐵（51）通過勻磁環（52）安裝于基座（54）上。

9.如權利要求1所述的集成式陰極電弧靶，其特征在于：

所述的檔板機構（6）為依次相連的線性運動饋入裝置（61）、連桿（62）、檔板（63）組成的曲軸滑塊結構，運動引入密封方式為波紋管密封。

10.如權利要求1所述的集成式陰極電弧靶，其特征在于：

所述的引弧機構（7）由依次相連的線形運動饋入裝置（71）和引弧針（72）組成，運動引入密封方式為波紋管密封，所述的引弧針（72）與靶（13）面接觸的端頭有彎折。