[發明專利]一種磁控濺射在塑料上制鋁氧化鋅膜的方法

無效

• 申請號: 201310460028.9
• 申請日: 2013-09-29
• 公開（公告）號: CN104513961A
• 公開（公告）日: 2015-04-15
• 發明（設計）人: 袁萍
• 申請（專利權）人: 無錫慧明電子科技有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/20
• 代理公司: 無
• 代理人: 無

技術領域

本發明屬于磁控濺射鍍膜技術領域，特別是一種塑料上鍍膜的方法。

背景技術

傳統的磁控濺射鍍鋁膜技術是在底真空下，直接濺射鍍鋁，在玻璃、不銹鋼、銅工件等基材上得到附著力良好的鏡面鋁膜。在針對塑料的鍍膜中，基材放氣量遠遠大于玻璃、不銹鋼等材料?；牡姆艢馐且粋€持續不斷的過程，其造成的后果是，在濺射過程中，鋁膜被材料放出的氣體氧化變黃，甚至發黑，出現鏡面效果差的問題。

發明內容

本發明就是針對鍍鋁膜技術的不足，提出一種塑料上鍍鋁氧化鋅膜的方法，有效解決了鋁膜發黃、鏡面效果差的問題。

本發明的在塑料上制鋁氧化鋅膜的工藝，具體步驟如下：

第一步：將工件經過超聲波除油、清洗、烘干后送入磁控濺射裝置，然后抽真空至5×10^-3Pa；

第二步：進行磁控濺射鍍鋁氧化鋅薄膜，將本底抽真空至5×10^-3Pa，濺射氣體為氬氣，氣壓0.1-0.9Pa，濺射功率2-5W/cm²，沉積時間為20-50s；

第三步：停止鋁氧化鋅鍍膜，關閉濺射電源，關閉工藝氣體氬氣，將鍍膜室本底真空抽至5×10^-3Pa；

第四步：進行磁控濺射鍍鋁薄膜，將本底抽真空至5×10^-3Pa，濺射氣體為氬氣，濺射氣壓0.1-0.9Pa，濺射功率2-5W/cm²，沉積時間為70-100s。

進一步的，所述的塑料上鍍的鋁氧化鋅膜，厚度為10-100nm，沉積的鋁膜厚度為60-300nm。

本發明的有益效果在于：通過在塑料上鋁氧化鋅膜，有效的避免了塑料基材的放氣，使鍍膜不變黑，具有較好的鏡面效果；同時該方法的利用，有效的解決了在塑料上直接濺射鍍鋁膜時，附著力很差的問題。

具體實施方式

一般情況下的鍍膜流程：

第一步：將塑料進行超聲波清洗、烘干后，送入磁控濺射鍍膜設備中緩沖室內，鍍膜面朝向鋁氧化鋅陰極靶材；

第二步：緩沖室及鍍膜室內真空抽至5×10^-3Pa；

第三步：打開紅?氣流量流量計，流量為340sccm，微調后使鍍膜室氣壓為0.4Pa，穩定后打開鋁氧化鋅靶材濺射電源，緩慢增加功率至2W/cm²，然后預濺射15min；

第四步：將工件運送至靶材下，進行鍍膜，時間為30s左右，然后關閉鋁氧化鋅靶材電源，關閉紅氣，抽真空至5×10^-3Pa；

第五步：將工件移出真空室，進入緩沖間，鍍膜面朝向鋁陰極靶材；

第六步：緩沖室及鋁膜鍍膜室內真空抽至5×10^-3Pa；

第七步：打開紅氣流量流量計，流量為380sccm，微調后使鍍膜室氣壓為0.7Pa，穩定后打開鋁靶材濺射電源，緩慢增加功率至5W/cm²，然后預濺射15min；

第八步：將工件運送至靶材下，進行鍍膜，時間為90s左右。

通過上述八步即可完成鍍膜。

一般的，鋁氧化鋅膜厚度為10-100nm，沉積的鋁膜厚度為60-300nm。