[發明專利]真空探漏自動封堵裝置

無效

• 申請號: 201310455437.X
• 申請日: 2013-09-30
• 公開（公告）號: CN103487217A
• 公開（公告）日: 2014-01-01
• 發明（設計）人: 李連廣;張長秋;張琳;路文平;王宇昕;周文紅;姚艷;李曉巍
• 申請（專利權）人: 中核（天津）機械有限公司
• 主分類號: G01M3/20
• 分類號: G01M3/20
• 代理公司: 天津市宗欣專利商標代理有限公司 12103
• 代理人: 胡恩河

1.真空探漏自動封堵裝置，包括左右兩端封堵和前后兩側封堵，在左右兩端封堵中的左端設置有底座（1），在右端設置有右端堵頭支架（11），其特征在于：在所述的底座（1）上分別設置有電機固定架（2）和左右導軌（5），伺服電機（3）安裝在電機固定架（2）上，左端堵頭支架（6）安裝在左右導軌（5）上，左端封堵頭（7）安裝在左端堵頭支架（6）中，伺服電機（3）通過柔性聯軸器（4）與左端封堵頭（7）連接，左端封堵頭（7）通過墊圈（8）與工件的左端連通，在右端堵頭支架（11）上安裝有右端封堵管（10），右端封堵管（10）一端通過墊圈（8）與工件的右端連通；在前后兩側封堵中設置有兩側固定座（16），在兩側固定座（16）的前后兩側分別設置有兩條兩側導軌（13），在兩側導軌（13）上設置有連接臺（14），在連接臺（14）上設置有氣缸（12）和多個兩側封堵頭（15）。

2.根據權利要求1所述的真空探漏自動封堵裝置，其特征在于：所述的兩側封堵頭（15）的數量與工件（17）上通孔（18）的數量對應。

3.根據權利要求1所述的真空探漏自動封堵裝置，其特征在于：所述的伺服電機（3）和氣缸（12）均由PLC電路控制。