[發(fā)明專利]陣列基板及其制備方法、顯示裝置

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310455200.1
• 申請日: 2013-09-29
• 公開（公告）號: CN103500746A
• 公開（公告）日: 2014-01-08
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 蔡振飛;羅麗平;郝昭慧
• 申請（專利權(quán)）人: 京東方科技集團股份有限公司;北京京東方顯示技術(shù)有限公司
• 主分類號: H01L27/12
• 分類號: H01L27/12;H01L21/77
• 代理公司: 北京路浩知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11002
• 代理人: 李相雨

1.一種陣列基板，包括襯底基板以及設(shè)置在所述襯底基板上的多列數(shù)據(jù)線；各列數(shù)據(jù)線的端部為貼合區(qū)域，相鄰貼合區(qū)域之間的區(qū)域為非貼合區(qū)域，所述非貼合區(qū)域覆蓋有鈍化層；其特征在于，所述非貼合區(qū)域覆蓋的鈍化層與襯底基板之間設(shè)置有增高層。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列基板，其特征在于，所述陣列基板上還設(shè)置有柵極金屬層；所述增高層與所述柵極金屬層同層設(shè)置且材質(zhì)相同。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的陣列基板，其特征在于，所述數(shù)據(jù)線的端部與襯底基板之間設(shè)置有有源層；所述增高層的厚度等于所述數(shù)據(jù)線與所述有源層的厚度之和。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的陣列基板，其特征在于，所述增高層的長度不小于所述貼合區(qū)域的長度。

5.一種陣列基板制備方法，其特征在于，包括形成權(quán)利要求1-4任意一項所述的增高層的步驟。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的陣列基板制備方法，其特征在于，包括：

同時形成柵極金屬層以及增高層；

形成柵絕緣層、有源層、數(shù)據(jù)線、源漏金屬層、鈍化層以及過孔。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的陣列基板制備方法，其特征在于，所述同時形成柵極金屬層以及增高層進一步包括：

在襯底基板上沉積金屬薄膜；

通過構(gòu)圖工藝形成所述柵極金屬層以及增高層圖案。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的陣列基板制備方法，其特征在于，所述形成所述柵極金屬層以及增高層圖案進一步包括：

在所述金屬薄膜上涂覆一層光刻膠；

通過掩膜板曝光，形成對應(yīng)所述增高層以及柵極金屬層的光刻膠保留區(qū)域以及對應(yīng)上述區(qū)域之外區(qū)域的光刻膠去除區(qū)域；

顯影處理后，通過刻蝕工藝去除光刻膠去除區(qū)域的金屬薄膜；

剝離剩余的光刻膠。

9.一種顯示裝置，其特征在于，包括權(quán)利要求1-4任意一項所述的陣列基板。