[發(fā)明專利]基板處理裝置

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310451730.9
• 申請日: 2013-09-27
• 公開（公告）號(hào): CN103700606A
• 公開（公告）日: 2014-04-02
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 宮崎充;小林賢一;本坊光朗;今村聽;董博宇;筱崎弘行
• 申請（專利權(quán)）人: 株式會(huì)社荏原制作所
• 主分類號(hào): H01L21/67
• 分類號(hào): H01L21/67
• 代理公司: 上海市華誠律師事務(wù)所 31210
• 代理人: 梅高強(qiáng);劉煜

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種基板處理裝置，尤其涉及一種具有對半導(dǎo)體晶片等基板進(jìn)行清洗的清洗部，用作為例如研磨裝置的基板處理裝置。

背景技術(shù)

例如，在對基板表面的氧化膜進(jìn)行清洗的清洗處理中，必須將酸性藥液進(jìn)行的清洗步驟和堿性藥液進(jìn)行清洗步驟予以組合，再經(jīng)過精清洗，然后進(jìn)行沖洗·干燥處理。因此，必須具有許多清洗組件以進(jìn)行清洗處理。

當(dāng)將輥式摩擦清洗組件用作為清洗組件，且對基板表面的氧化膜等進(jìn)行使用了酸性藥液的輥式摩擦清洗時(shí)，產(chǎn)生這樣的問題：不僅應(yīng)當(dāng)去除的微粒重新附著在基板上，而且損傷輥式摩擦清洗組件本身、從基板上去除酸。因此，在用輥式摩擦清洗組件并用酸性藥液對基板表面進(jìn)行輥式摩擦清洗的情況下，要求用純水對輥式摩擦清洗后的基板進(jìn)行沖洗清洗。

作為對半導(dǎo)體晶片等基板進(jìn)行處理的基板處理裝置，廣泛采用這樣的裝置：串聯(lián)配置刷子清洗單元和噴射水清洗裝置等多個(gè)清洗組件，一邊向一方向輸送基板一邊對基板進(jìn)行處理(清洗)。

這樣，在直線狀配置多個(gè)清洗組件的情況下，當(dāng)增加清洗組件數(shù)量提高處理量、或要增加清洗步驟時(shí)，則裝置的占用空間(設(shè)置面積)就增加，而且一邊使基板向一方向移動(dòng)一邊進(jìn)行處理，因此，清洗的順序始終是一定的，不能與基板表面的膜質(zhì)等變化相對應(yīng)地進(jìn)行清洗。

為了不增大占用空間地提高處理量，申請人提出了這樣的基板處理裝置，其具有：縱向配置有多個(gè)第1清洗組件的第1清洗室；縱向配置有多個(gè)第2清洗組件的第2清洗室；以及收納在第1清洗室與第2清洗室之間的輸送室內(nèi)，在第1清洗室內(nèi)的第1清洗組件與第2清洗室內(nèi)的第2清洗組件之間進(jìn)行基板交接的輸送機(jī)械手(參照專利文獻(xiàn)1)。

專利文獻(xiàn)1：日本專利特開2010-50436號(hào)公報(bào)

發(fā)明所要解決的課題

在專利文獻(xiàn)1所述的發(fā)明中，基板首先被輸送到第1清洗組件，在由第1清洗組件清洗(一次清洗)后，被輸送到第2清洗組件，由第2清洗組件清洗(二次清洗)。因此，專利文獻(xiàn)1所述的發(fā)明在將基板輸送到第2清洗組件進(jìn)行清洗(一次清洗)后，不能將基板輸送到第1清洗組件進(jìn)行清洗(二次清洗)。

另外，在由輥式摩擦清洗組件構(gòu)成第1清洗組件，用使用了酸性藥液的輥式摩擦清洗方式對基板表面的氧化膜等進(jìn)行清洗的情況下，如前所述，要求用純水等對輥式摩擦清洗后的基板進(jìn)行沖洗清洗。此外，在例如大量的漿料和研磨渣等附著在研磨結(jié)束后的基板上的情況下，在利用沖洗清洗處理等方式而預(yù)先去除附著在基板上的漿料和研磨渣等之后，由于對基板進(jìn)行輥式摩擦清洗，故能防止在輥式摩擦清洗中損傷基板、微粒重新附著于基板上。但是，專利文獻(xiàn)1所述的發(fā)明不能滿足這種要求。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明是鑒于上述問題而做成的，其目的在于提供一種基板處理裝置，獲得處理量的提高及省空間化，同時(shí)能靈活地應(yīng)對例如基板上的氧化膜等的膜質(zhì)等的不同相對應(yīng)的清洗樣式的變更。

用于解決課題的手段

本發(fā)明的基板處理裝置具有：第1清洗室，所述第1清洗室將至少一個(gè)以上的第1清洗組件和兩個(gè)第2清洗組件配置成沿縱向連續(xù)排列；第2清洗室，所述第2清洗室沿縱向配置兩個(gè)第3清洗組件；以及第1輸送機(jī)械手，所述第1輸送機(jī)械手收納在所述第1清洗室與所述第2清洗室之間的第1輸送室內(nèi)，在所述第1清洗組件、所述第2清洗組件及所述第3清洗組件的相互間進(jìn)行基板交接。

采用本發(fā)明，在用第1清洗室內(nèi)的第1清洗組件對基板進(jìn)行清洗后，能用兩個(gè)第2清洗組件中任一方對基板進(jìn)行清洗，進(jìn)一步能用第2清洗室內(nèi)的第3清洗組件對基板進(jìn)行清洗，另外，在用第1清洗室內(nèi)的兩個(gè)第2清洗組件中任一方對基板進(jìn)行清洗后，能用第1清洗室內(nèi)的第1清洗組件對基板進(jìn)行清洗，進(jìn)一步能用第2清洗室內(nèi)的第3清洗組件進(jìn)行清洗。即，在最初的清洗，有使用第1清洗組件的情況和使用兩個(gè)第2清洗組件中任一方的情況。由此，能任意選擇最初清洗所使用的清洗組件，并能靈活地應(yīng)對與例如基板上的氧化膜等的膜質(zhì)等的不同相對應(yīng)的清洗樣式的變更。

在本發(fā)明的較佳形態(tài)中，所述第1輸送機(jī)械手具有設(shè)在升降自如的升降臺(tái)上，互相獨(dú)立動(dòng)作并對基板進(jìn)行保持的兩個(gè)手。

由此，用1個(gè)第1輸送機(jī)械手進(jìn)行基板的復(fù)雜交接，能減少總開銷時(shí)間。

在本發(fā)明的較佳形態(tài)中，所述第1清洗組件是沖洗清洗組件，所述第2清洗組件是輥式摩擦清洗組件。